低压钠灯反光罩的制作方法

1.本实用新型涉及照明技术领域，具体为低压钠灯反光罩。


背景技术：

2.传统反光罩采用的是一般的球面或抛物面或椭圆面型结构，因低压钠灯灯管的体积较大，部分反射光会被反射回钠光灯管所在的区域而变成热能，既影响光的利用效率，又会导致钠光灯管的温度上升，影响钠光灯的使用寿命。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供低压钠灯反光罩，以解决上述背景技术中提出的影响光的利用效率，导致钠光灯管的温度上升，影响钠光灯的使用寿命的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：低压钠灯反光罩，包括罩体，所述罩体内左右两侧均对称开设有反光槽一与反光槽二，且反光槽一的截面为渐开线，所述反光槽二的截面为抛物线，且反光槽一与反光槽二内设有镀层。
5.优选的，所述镀层为铝层。
6.优选的，所述罩体内设有灯管，且灯管位于左右两个反光槽一连接处，所述灯管与左右反光槽一连接处间隔小于1mm。
7.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
8.反光槽一与反光槽二的截面分别为渐开线和抛物线，可以将所有射到反光槽一、反光槽二的光线完全反射到出射方向，而不会有光放到灯管所在区域变成热能的问题存在，提高了灯管的发光利用率。
附图说明
9.图1为本实用新型结构示意图；
10.图2为本实用新型罩体的截面示意图；
11.图3为本实用新型灯管装配结构示意图。
12.图中：1罩体、2反光槽二、3反光槽一、4灯管。
具体实施方式
13.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
14.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定
的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
15.实施例：
16.请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：低压钠灯反光罩，包括罩体1，所述罩体1内左右两侧均对称开设有反光槽一3与反光槽二2，且反光槽一3的截面为渐开线，所述反光槽二2的截面为抛物线，且反光槽一3与反光槽二2内设有镀层。
17.所述镀层为铝层，所述罩体1内设有灯管4，且灯管4位于左右两个反光槽一3连接处，所述灯管4与左右反光槽一3连接处间隔小于1mm。
18.工作原理：反光槽一3与反光槽二2的截面分别为渐开线和抛物线，可以将灯管4点亮产生的所有射到反光槽一3、反光槽二2的光线完全反射到出射方向，而不会有光放到灯管4所在区域变成热能的问题存在，提高了灯管4的发光利用率。
19.以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点,对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型；因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内，不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
20.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征：
1.低压钠灯反光罩，包括罩体(1)，其特征在于：所述罩体(1)内左右两侧均对称开设有反光槽一(3)与反光槽二(2)，且反光槽一(3)的截面为渐开线，所述反光槽二(2)的截面为抛物线，且反光槽一(3)与反光槽二(2)内设有镀层。2.根据权利要求1所述的低压钠灯反光罩，其特征在于：所述镀层为铝层。3.根据权利要求1所述的低压钠灯反光罩，其特征在于：所述罩体(1)内设有灯管(4)，且灯管(4)位于左右两个反光槽一(3)连接处，所述灯管(4)与左右反光槽一(3)连接处间隔小于1mm。

技术总结
本实用新型公开的属于照明技术领域，具体为低压钠灯反光罩，包括罩体，所述罩体内左右两侧均对称开设有反光槽一与反光槽二，且反光槽一的截面为渐开线，所述反光槽二的截面为抛物线，且反光槽一与反光槽二内设有镀层，镀层为铝层，反光槽一与反光槽二的截面分别为渐开线和抛物线，可以将所有射到反光槽一、反光槽二的光线完全反射到出射方向，而不会有光放到灯管所在区域变成热能的问题存在，提高了灯管的发光利用率。的发光利用率。的发光利用率。


技术研发人员：李治显 刘征平
受保护的技术使用者：苏州汇影光学技术有限公司
技术研发日：2021.09.14
技术公布日：2022/3/8