一种新型摆动研磨装置的制作方法

1.本实用新型涉及精密加工设备技术领域，尤其是涉及一种新型摆动研磨装置。


背景技术：

2.目前国内大尺寸单面精密加工领域中，普遍存在加工后工件平面倾斜、整个平面中心位置高于边缘。如采用研磨的加工方式会使研磨盘精度很快丧失，无法精确的进行加工等问题。以上问题主要集中在，工件的运动路径重合，造成工件与研磨盘局部不断重合磨削，无法对工件整个平面进行均匀且无序的研磨。
3.本技术人发现现有技术至少存在以下技术问题：现有的研磨装置的研磨盘局部与工件不断重合磨削，导致加工精度差。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种新型摆动研磨装置，以解决现有技术中存在的研磨装置的研磨盘局部与工件不断重合磨削，导致加工精度差的技术问题。本实用新型提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。
5.为实现上述目的，本实用新型提供了以下技术方案：
6.本实用新型提供的新型摆动研磨装置，包括研磨盘机构和摆动机构，
7.所述摆动机构包括摆动盘和摆动驱动结构，所述摆动盘转动设置在摆动轴上，所述摆动驱动结构设置在所述摆动盘的一端，所述摆动驱动结构驱动所述摆动盘摆动，所述摆动盘能够带动研磨盘机构上的工件移动。
8.进一步地，还包括自转机构，所述自转机构包括转动盘和自转驱动结构，所述转动盘设置在所述摆动盘与所述研磨盘机构之间，所述自转驱动结构驱动所述转动盘自转，所述摆动盘带动所述转动盘以及研磨盘机构上的工件移动。
9.进一步地，所述自转驱动机构包括自转驱动电机、主动齿轮，所述自转驱动电机设置在摆动盘上，所述自转驱动电机驱动所述主动齿轮转动，所述转动盘为齿轮盘，在所述齿轮盘上设置有放置孔。
10.进一步地，所述放置孔的数量为偶数个。
11.进一步地，所述放置孔沿所述齿轮盘的周向分布。
12.进一步地，所述摆动驱动结构包括摆动驱动电机、摆动曲柄，所述摆动驱动电机与所述摆动曲柄的一端连接，所述摆动驱动电机驱动所述摆动曲柄摆动，在所述摆动盘上设置有摆动槽，所述摆动曲柄的另一端连接在所述摆动槽中。
13.进一步地，所述研磨盘机构包括研磨盘以及研磨盘驱动结构，所述研磨盘驱动结构驱动所述研磨盘转动。
14.进一步地，所述摆动机构的摆动角度为0-70度。
15.本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的新型摆动研磨装置，设置有摆动盘，摆动盘能够在摆动驱动结构的驱动下，带动研磨盘机构上的工件移动，从而改变工件与研
磨盘机构的相对位置，在研磨过程中，研磨盘的磨削位置不断变化，从而改变了研磨盘的消耗规律，提高研磨精度。
附图说明
16.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
17.图1是本实用新型的剖视图；
18.图2是本实用新型的俯视图。
19.图中1、研磨盘机构；2、摆动机构；3、自转机构；11、研磨盘；12、研磨盘驱动结构；21、摆动盘；22、摆动驱动结构；23、摆动轴；24、摆动驱动电机；25、摆动曲柄；26、摆动槽；31、转动盘；32、自转驱动结构；33、放置孔；34、自转驱动电机；35、主动齿轮。
具体实施方式
20.下面可以参照附图图1～图2以及文字内容理解本实用新型的内容以及本实用新型与现有技术之间的区别点。下文通过附图以及列举本实用新型的一些可选实施例的方式，对本实用新型的技术方案(包括优选技术方案)做进一步的详细描述。需要说明的是：本实施例中的任何技术特征、任何技术方案均是多种可选的技术特征或可选的技术方案中的一种或几种，为了描述简洁的需要本文件中无法穷举本实用新型的所有可替代的技术特征以及可替代的技术方案，也不便于每个技术特征的实施方式均强调其为可选的多种实施方式之一，所以本领域技术人员应该知晓：可以将本实用新型提供的任一技术手段进行替换或将本实用新型提供的任意两个或更多个技术手段或技术特征互相进行组合而得到新的技术方案。本实施例内的任何技术特征以及任何技术方案均不限制本实用新型的保护范围，本实用新型的保护范围应该包括本领域技术人员不付出创造性劳动所能想到的任何替代技术方案以及本领域技术人员将本实用新型提供的任意两个或更多个技术手段或技术特征互相进行组合而得到的新的技术方案。
21.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有说明，
″
多个
″
的含义是两个或两个以上；术语
″
上
″
、
″
下
″
、
″
左
″
、
″
右
″
、
″
内
″
、
″
外
″
、
″
前端
″
、
″
后端
″
、
″
头部
″
、
″
尾部
″
等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语
″
第一
″
、
″
第二
″
、
″
第三
″
等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
22.在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语
″
安装
″
、
″
相连
″
、
″
连接
″
应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
23.本实用新型提供了一种加工精度更高的新型摆动研磨装置。
24.下面结合图1～图2对本实用新型提供的技术方案进行更为详细的阐述。
25.本实用新型提供了一种新型摆动研磨装置，包括研磨盘机构和摆动机构，所述摆动机构包括摆动盘和摆动驱动结构，所述摆动盘转动设置在摆动轴上，所述摆动驱动结构设置在所述摆动盘的一端，所述摆动驱动结构驱动所述摆动盘摆动，所述摆动盘能够带动研磨盘机构上的工件移动。
26.本实用新型提供的新型摆动研磨装置，设置有摆动盘，摆动盘能够在摆动驱动结构的驱动下，带动研磨盘机构上的工件移动，从而改变工件与研磨盘机构的相对位置，在研磨过程中，研磨盘的磨削位置不断变化，从而改变了研磨盘的消耗规律，提高研磨精度。
27.作为可选地实施方式，还包括自转机构，所述自转机构包括转动盘和自转驱动结构，所述转动盘设置在所述摆动盘与所述研磨盘机构之间，所述自转驱动结构驱动所述转动盘自转，所述摆动盘带动所述转动盘摆动，在所述转动盘上设置有放置孔。
28.本实用新型提供的新型摆动研磨装置，还包括转动盘，自转驱动机构驱动所述转动盘转动，从而带动转动盘内的工件自转，进一步确保研磨盘与工件的相对位置在不断变化中，从而改变研磨盘的消耗规律，使其研磨消耗更加均匀稳定，保证加工质量的要求，提高加工质量和加工效率。
29.作为可选地实施方式，所述自转驱动机构包括自转驱动电机、主动齿轮，所述自转驱动电机设置在摆动盘上，所述自转驱动电机驱动所述主动齿轮转动，所述转动盘为齿轮盘，在所述齿轮盘上设置有所述放置孔。
30.上述结构，将自转驱动电机设置在摆动盘上，跟随摆动盘一起转动，转动盘与主动齿轮相啮合，自转驱动电机带动转动盘转动，从而带动工件自转。
31.作为可选地实施方式，所述放置孔的数量为偶数个。放置孔的数量可以是任意数量，偶数个为优选方案。
32.作为可选地实施方式，所述放置孔沿所述齿轮盘的周向分布。
33.作为可选地实施方式，所述摆动驱动结构包括摆动驱动电机、摆动曲柄，所述摆动驱动电机与所述摆动曲柄的一端连接，所述摆动驱动电机驱动所述摆动曲柄摆动，在所述摆动盘上设置有摆动槽，所述摆动曲柄的另一端连接在所述摆动槽中。
34.上述结构，摆动驱动电机驱动摆动曲柄转动，摆动曲柄带动摆动盘转动，从而实现摆动盘的摆动。
35.作为可选地实施方式，所述研磨盘机构包括研磨盘以及研磨盘驱动结构，所述研磨盘驱动结构驱动所述研磨盘转动。
36.作为可选地实施方式，所述摆动机构的摆动角度为0-70度。
37.实施例1:
38.本实用新型提供的新型摆动研磨装置，包括研磨盘机构1、摆动机构2和自转机构3，所述研磨盘机构1包括研磨盘11以及研磨盘驱动结构12，所述研磨盘驱动结构12驱动所述研磨盘11转动。
39.所述摆动机构2包括摆动盘21和摆动驱动结构22，所述摆动盘21转动设置在摆动轴23上，所述摆动驱动结构22设置在所述摆动盘21的一端，所述摆动驱动结构22驱动所述摆动盘21摆动，所述摆动盘21的另一端设置在所述研磨盘11上方；
40.所述摆动驱动结构22包括摆动驱动电机24、摆动曲柄25，所述摆动驱动电机24与
所述摆动曲柄25的一端连接，所述摆动驱动电机24驱动所述摆动曲柄25摆动，在所述摆动盘21上设置有摆动槽26，所述摆动曲柄25的另一端连接在所述摆动槽26中。
41.所述自转机构3包括转动盘31和自转驱动结构32，所述转动盘31设置在所述摆动盘21与所述研磨盘11之间，所述自转驱动结构32驱动所述转动盘31自转，在所述转动盘31上设置有用于放置工件的放置孔33，所述摆动盘21带动所述转动盘31移动。
42.所述自转驱动结构32包括自转驱动电机34、主动齿轮35，所述自转驱动电机34驱动所述主动齿轮35转动，所述转动盘31为齿轮盘，在所述齿轮盘上设置有所述放置孔。
43.以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。