一种氧化处理设备的制作方法

专利查询2022-05-27  2



1.本实用新型涉及制备太阳能电池的技术领域,尤其涉及一种氧化处理设备。


背景技术:

2.钝化发射极和背面接触电池(perc电池)在激光掺杂制备选择性发射极和碱抛背刻两道工序之间,需要将激光掺杂的区域先用氧化层保护起来,否则在碱抛背刻时激光掺杂区会因为激光去除了表面的磷硅玻璃(psg)而被碱腐蚀掉。
3.目前激光重掺区的保护主要是用热氧化的方法制备氧化层,所需要的温度为600-850℃。高温加热需要消耗大量的电能,造成制备成本难以降低,且无法保证氧化处理时表面的均匀性。


技术实现要素:

4.本实用新型的目的在于提供一种氧化处理设备,提高了硅片氧化处理时的均匀性,且利用了臭氧的强氧化性,反应温度较低,可以大幅降低反应过程电能的消耗,降低生产成本。
5.为实现上述目的,本实用新型提供一种氧化处理设备,该设备包括反应室,所述反应室的侧面相对设有输入口和输出口;运输机构,设于所述反应室内,且延伸出所述输入口和所述输出口;若干加热机构,间隔设于所述反应室的顶部,且位于所述运输机构的上方,与所述运输机构具有间距,用于对所述运输机构上的硅片加热;若干处理机构,间隔设于所述反应室的顶部,且与所述加热机构依次交错设置,用于释放臭氧气体至所述运输机构上的硅片。
6.本实用新型提供的氧化处理设备的有益效果在于:通过将加热机构和处理机构交错设置在反应室内,且加热机构和处理机构均位于运输机构的上方,使运输机构运输待处理的硅片时会经过加热机构和处理机构,加热机构会对硅片进行加热,使硅片处于氧化反应时最优的温度,处理机构用于释放臭氧气体至运输机构上的硅片进行氧化反应。更为重要的是,由于多个加热机构和多个处理机构交错排布依次设置,保证了硅片反应时所需的温度的同时,提高了对硅片氧化反应的均匀性,且设置若干处理机构释放臭氧气体,避免了需要消耗大量臭氧气体在反应室内进行氧化反应,降低了生产成本。
7.可选地,所述运输机构包括运输底座和若干滚动杆,所述运输底座上间隔设有若干安装槽,若干所述滚动杆可转动的设于所述安装槽内。其有益效果在于:运输机构包括运输底座和若干滚动杆,通过在运输底座上间隔开设若干安装槽,将滚动杆可转动的设于安装槽内,通过旋转滚动杆实现对硅片的运输移动,由于若干滚动杆间隔设置的,所以相邻滚动杆之间具有间隙,保证了对硅片背面的反应处理,提高了处理的可靠性。
8.可选地,所述反应室还包括设置的安装框架;所述安装框架设于所述运输机构的上方,且靠近所述反应室的顶部,所述加热机构和所述处理机构设于所述安装框架。其有益效果在于:通过设置安装框架,实现对加热机构和处理机构的安装设置,结构简单,安装方
便。
9.可选地,所述加热机构包括第一伸缩机构、第一连接板和加热单元,所述第一连接板设于所述安装框架;所述第一伸缩机构与所述第一连接板连接,所述第一伸缩机构的伸缩端与所述加热单元连接。其有益效果在于:加热机构包括第一伸缩机构和加热单元,通过设置第一伸缩机构,用于调节加热单元与运输机构的距离,实现对硅片的导热距离的控制,同时便于工作人员的检测维修。
10.可选地,所述加热机构还包括:第一导向杆和第一导向块,所述第一导向块与所述安装框架连接,且位于所述第一伸缩机构的两侧,所述第一导向块开设有第一导向孔;所述第一导向杆的一端与所述加热单元连接,所述第一导向杆的另一端与所述第一导向孔活动连接。其有益效果在于:通过设置第一导向杆和第一导向块,保证伸缩时的可靠性和稳定性。
11.可选地,所述加热单元包括加热腔室、加热管和散热盖,所述加热腔室具有导热口,所述导热口对应所述运输机构,所述加热腔室的内部和所述加热腔室的外侧面均设有所述加热管,所述散热盖设于所述加热腔室的外侧面,且将设于所述加热腔室的外侧面的所述加热管盖合,所述散热盖上开设有若干散热孔。其有益效果在于:加热单元包括加热腔室、加热管和散热盖,通过将加热管设置在加热腔室的内部和加热腔室的外侧面,使反应室内的反应环境温度保持一个相对恒定的温度,且通过散热盖盖合加热腔室的外侧面的加热管,保证散热的同时,使设备更安全。
12.可选地,所述处理机构包括第二伸缩机构、第二导向杆、第二连接板、喷淋单元和第二导向块,所述第二连接板设于所述安装框架;所述第二伸缩机构与所述第二连接板连接,所述第二伸缩机构的伸缩端与所述喷淋单元连接;所述第二导向块与所述安装框架连接,且位于所述第二伸缩机构的两侧,所述第二导向块开设有第二导向孔;所述第二导向杆的一端与所述喷淋单元连接,所述第二导向杆的另一端与所述第二导向孔活动连接。其有益效果在于:通过设置第二伸缩机构、第二导向杆、第二连接板、喷淋单元和第二导向块,实现对喷淋单元与运输机构的距离的调节,可调节最合适的位置,且第二导向杆和第二导向块位于第二伸缩机构的两侧,保证了喷淋单元伸缩时的可靠性和稳定性。
13.可选地,所述喷淋单元内设有喷淋板,所述喷淋板设有若干第一排气孔,所述喷淋板将所述喷淋单元分隔成第一腔室和第二腔室,所述第一腔室开设有接气孔用于接收臭氧气体,所述第二腔室对应所述运输机构开设有若干第二排气孔。其有益效果在于:通过在喷淋板上设置若干第一排气孔,且喷淋板将喷淋单元分隔成第一腔室和第二腔室,第一腔室开设有接气孔用于接收臭氧气体,第二腔室对应运输机构开设有若干第二排气孔,从而臭氧气体可通过接气孔接收气体,并经过第一腔室和第二腔室从若干第二排气孔排出,保证臭氧气体释放时的均匀性,从而提高了氧化反应的均匀性。
14.可选地,所述反应室还包括固定框架、挡板和开合门,所述挡板和所述开合门设于所述固定框架的外侧形成所述反应室,所述输入口和所述输出口开设于所述挡板。其有益效果在于:反应室结构简单,且设置开合门便于工作人员对反应室内部进行操作。
15.可选地,还包括若干抽气筒,所述挡板开设有若干抽气孔,所述抽气筒对应所述抽气孔与所述挡板连接,所述抽气筒用于与抽气风机连接。其有益效果在于:在挡板上开设抽气孔,并在抽气孔上设置抽气筒,抽气筒与抽气风机连接后,可对反应室内进行抽气,避免
反应室内的臭氧气体浓度过高,保证了工作环境安全性。
附图说明
16.图1为本实用新型的氧化处理设备的正视图;
17.图2为本实用新型的氧化处理设备的结构示意图;
18.图3为本实用新型的加热机构的结构示意图;
19.图4为本实用新型的处理机构的结构示意图。
20.附图标记:
21.反应室100、安装框架101、固定框架102、挡板103、开合门104;
22.运输机构200、运输底座201、滚动杆202;
23.加热机构300、第一伸缩机构301、第一连接板302、加热单元303、第一导向杆304、第一导向块305、加热腔室306、加热管307、散热盖308、散热孔309;
24.处理机构400、第二伸缩机构401、第二导向杆402、第二连接板403、喷淋单元404、第二导向块405、接气孔406;
25.抽气筒500、硅片600。
具体实施方式
26.为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。除非另外定义,此处使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。
27.针对现有技术存在的问题,本实用新型的实施例提供了一种氧化处理设备,参考图1和图2所示,该设备包括反应室100、运输机构200、若干加热机构300和若干处理机构400。其中,反应室100的侧面相对设有输入口和输出口,运输机构200设置在反应室100内,且运输机构200的两端分别从输入口和输出口延伸出,便于硅片的输入和输出,若干加热机构300间隔设于反应室100的顶部,且位于运输机构200的上方,与运输机构200具有间距,用于对运输机构200上的硅片600进行加热,若干处理机构400,间隔设于反应室100的顶部,且与加热机构300依次交错设置,用于释放臭氧气体至运输机构200上的硅片600。
28.在本实施例中,加热机构300的数量和处理机构400的数量相同,从靠近输入口开设,依次设置加热机构300和处理机构400,通过将加热机构300和处理机构400交错设置在反应室100内,且加热机构300和处理机构400均位于运输机构200的上方,使运输机构200运输待处理的硅片600时会经过加热机构300和处理机构400,加热机构300对硅片600进行加热,使硅片600处于氧化反应时最优的温度,处理机构400用于释放臭氧气体至运输机构200上的硅片600进行氧化反应。更为重要的是,由于多个加热机构300和多个处理机构400交错排布依次设置,保证了硅片600反应时所需的温度的同时,提高了对硅片600氧化反应的均
匀性,且设置若干处理机构400释放臭氧气体直接对运输机构200上的硅片600喷涂,避免了需要消耗大量臭氧气体在反应室100内进行氧化反应的情景,降低了生产成本。
29.可选的,该运输机构200包括运输底座201和若干滚动杆202,运输底座201上间隔设有若干安装槽,若干滚动杆202可转动的设于安装槽内。通过旋转滚动杆202实现对硅片600的运输移动,由于若干滚动杆202间隔设置的,所以相邻滚动杆202之间具有间隙,保证了对硅片600背面的反应处理,提高了处理的可靠性。可以理解的是,滚动杆202的动力是由动力装置提供。
30.进一步的,反应室100内还包括设置的安装框架101,安装框架101设于运输机构200的上方,且靠近反应室100的顶部,加热机构300和处理机构400设于安装框架101上。
31.在本实施例中,安装框架101是由钢材搭建,通过设置安装框架101,实现对加热机构300和处理机构400的安装设置,结构简单,安装方便。
32.在本实用新型公开的另一个实施例中,在上述实施例的基础上,参考图3所示,图3为本实用新型提供的实施例中加热机构的结构示意图,该加热机构300包括第一伸缩机构301、第一连接板302和加热单元303,所述第一连接板302设于安装框架101,第一伸缩机构301与第一连接板302连接,第一伸缩机构301的伸缩端与加热单元303连接。通过设置第一伸缩机构301,用于调节加热单元303与运输机构200的距离,实现对硅片600的导热距离的控制,同时在非工作状态下,便于收起加热单元303工作人员的检测维修。
33.可选的,加热机构300还包括第一导向杆304和第一导向块305。其中,第一导向块305与安装框架101连接,且分别设置在第一伸缩机构301的两侧,第一导向块305开设有第一导向孔,第一导向杆304的一端与加热单元303连接,第一导向杆304的另一端与第一导向孔活动连接。通过设置第一导向杆304和第一导向块305,保证伸缩时的可靠性和稳定性。
34.进一步的,加热单元303还包括加热腔室306、加热管307和散热盖308,加热腔室306具有导热口,导热口对应运输机构200,加热腔室306的内部和加热腔室306的外侧面均设有加热管307,散热盖308设于加热腔室306的外侧面,且将设于加热腔室306的外侧面的加热管307盖合,散热盖308上开设有若干散热孔309。通过将加热管307设置在加热腔室306的内部和加热腔室306的外侧面,使反应室100内的反应环境温度保持一个相对恒定的温度,且通过散热盖308盖合加热腔室306的外侧面的加热管307,保证散热的同时,使设备更安全。
35.在本实用新型公开的再一个实施例中,在上述实施例的基础上,参考图4所示,图4为本实用新型提供的实施例中处理机构的结构示意图,该处理机构400包括第二伸缩机构401、第二导向杆402、第二连接板403、喷淋单元404和第二导向块405。具体的,第二连接板403设于安装框架101,第二伸缩机构401与第二连接板403连接,第二伸缩机构401的伸缩端与喷淋单元404连接,第二导向块405与安装框架101连接,且位于第二伸缩机构401的两侧,第二导向块405开设有第二导向孔,第二导向杆402的一端与喷淋单元404连接,第二导向杆402的另一端与第二导向孔活动连接。
36.通过设置第二伸缩机构401、第二导向杆402、第二连接板403、喷淋单元404和第二导向块405,实现对喷淋单元404与运输机构200的距离的调节,可调节最合适的位置,且第二导向杆402和第二导向块405位于第二伸缩机构401的两侧,保证了喷淋单元404伸缩时的可靠性和稳定性。
37.可选的,喷淋单元404内设有喷淋板,喷淋板设有若干第一排气孔,喷淋板将喷淋单元404分隔成第一腔室和第二腔室,第一腔室开设有接气孔406用于接收臭氧气体,第二腔室对应运输机构200开设有若干第二排气孔。
38.通过在喷淋板上设置若干第一排气孔,且喷淋板将喷淋单元404分隔成第一腔室和第二腔室,第一腔室开设有接气孔406用于接收臭氧气体,第二腔室对应运输机构200开设有若干第二排气孔,从而臭氧气体可通过接气孔406接收气体,并经过第一腔室和第二腔室从若干第二排气孔排出,保证臭氧气体释放时的均匀性,从而提高了氧化反应的均匀性。
39.可选的,反应室100还包括固定框架102、挡板103和开合门104,挡板103和开合门104设于固定框架102的外侧形成反应室100,输入口和输出口开设于挡板103。反应室100结构简单,且设置开合门104便于工作人员对反应室100内部进行操作。
40.另外,该氧化处理设备还包括若干抽气筒500,挡板103上开设有若干抽气孔,抽气筒500对应抽气孔与挡板103连接,抽气筒500用于与抽气风机连接。通过在挡板103上开设抽气孔,并在抽气孔上设置抽气筒500,抽气筒500与抽气风机连接后,可对反应室100内进行抽气,避免反应室100内的臭氧气体浓度过高,保证了工作环境安全性。
41.虽然在上文中详细说明了本实用新型的实施方式,但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是,能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是,应理解,这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本实用新型的范围和精神之内。而且,在此说明的本实用新型可有其它的实施方式,并且可通过多种方式实施或实现。

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