一种提拉装置及硅片清洗系统的制作方法

1.本实用新型涉及光伏技术领域，尤其涉及一种提拉装置及硅片清洗系统。


背景技术：

2.硅片生产是光伏产业链中的一个重要环节。通常，硅片由硅锭或硅棒切割而成，切割好的硅片需要进行清洗，然后再进入下一工段。
3.目前，在清洗开始前，硅片被竖直放入花篮的插片槽内，然后利用清洗机清洗硅片。当清洗机清洗硅片后，提拉装置提拉承载硅片的花篮脱离清洗机。但是，在提拉承载硅片的花篮时，硅片之间容易出现粘连，导致硅片从清洗机脱离后，硅片表面残留有大量清洗溶液。因此，硅片清洗后进行烘干时，不易烘干，还会出现湿片等问题，降低了烘干效率，影响了硅片质量。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种提拉装置及硅片清洗系统，以最大程度减少硅片清洗结束后表面黏附的清洗溶液，从而提高烘干效果，有效提高成品率。
5.第一方面，本实用新型提供一种提拉装置。该提拉装置用于提拉浸没在清洗槽内的花篮。本实用新型提供的提拉装置包括机械连接的提拉机构和承载结构。承载结构包括底座以及翘板机构。底座机械连接于提拉机构。翘板机构安装在底座。翘板机构用于承载花篮，使提拉机构从清洗槽内以第一预设角度倾斜提起花篮。
6.采用上述技术方案的情况下，底座机械连接于提拉机构，翘板机构安装在底座，而翘板机构用于承载花篮，因此，在提拉机构提拉承载结构的过程中，翘板机构可以以第一预设角度倾斜提起花篮，使得花篮所承载的各个硅片可以沿着一个方向倾斜，进而避免出现相邻两个硅片粘连在一起的问题。基于此，当提拉机构提拉承载结构离开清洗溶液的液面时，花篮所承载的各个硅片附着的清洗溶液可以顺利的从硅片表面滴落到清洗槽内，从而减少硅片表面残留的清洗溶液，以方便烘干硅片，并减少硅片出现湿片、脏污等问题的几率，进而保证硅片质量。
7.在一种可能的实现方式中，上述翘板机构包括承载部以及转动连接组件。承载部通过转动连接组件设在上述底座上。转动连接组件和承载部分别具有中心轴。转动连接组件的中心轴偏离承载部的中心轴。承载部远离底座的表面与底座靠近承载部的表面形成上述第一预设角度。
8.采用上述技术方案的情况下，承载部通过转动连接组件设在底座上，而转动连接组件的中心轴偏离承载部的中心轴，使得承载部在无外力作用下总是处于向一侧倾斜的状态，因此，在提拉机构提拉承载结构的过程中，承载部可保证所承载的花篮也处在倾斜状态，花篮内的硅片均向同一方向倾斜，从而避免了相邻的硅片粘连在一起，硅片脱去液体更彻底。
9.在一种可能的实现方式中，上述第一预设角度大于0
°
且小于或等于30
°
。在这个角
度范围内硅片的倾斜角度合适，一方面可以减少相邻硅片的粘连，另一方面避免了角度过大造成的硅片倾倒，甚至碰撞等不良后果。
10.在一种可能的实现方式中，上述第一预设角度大于0
°
且小于或等于20
°
。
11.在一种可能的实现方式中，当上述提拉机构提拉花篮时，花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与液面具有第二预设角度。第二预设角度为 0
°
～90
°
。
12.采用上述技术方案的情况下，当上述第二预设角度为0
°
时，硅片的延伸面与清洗溶液的延伸面会相交于一条直线，花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面平行。此时，在上述提拉机构提拉花篮至离开液面的过程中，花篮内的硅片保持倾斜的状态缓慢上升，硅片与清洗溶液液面的接触面积由平面逐渐变成线接触，最终硅片离开液面。而且，当花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面为线接触，在重力和清洗溶液表面张力的作用下，硅片表面残留的清洗溶液最后汇聚到硅片靠近清洗槽的底部的棱边，形成沿着棱边分布的液滴。
13.当上述第二预设角度为大于0
°
且小于等于90
°
时，在离开清洗溶液时，花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面为点接触，二者的交点为硅片底部的一个顶点，此时，在上述提拉机构提拉花篮至离开液面的过程中，花篮内的硅片保持倾斜的状态缓慢上升，硅片与清洗溶液液面的接触面积由平面逐渐变成点接触，最终硅片离开液面。基于此，当花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面为点接触，在重力和清洗溶液表面张力的作用下，硅片上残留的清洗溶液沿着硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边向下流，最终汇聚在硅片底部的一个顶点，形成液滴。在硅片表面残留的清洗溶液体积相同的情况下，相对于沿着棱边分布的液滴来说，汇聚在硅片底部顶点的液滴尺寸比较大，因此，在重力和表面张力的作用下，汇聚在硅片底部顶点的液滴比较容易掉落到清洗槽内。
14.由上可见，当第二预设角度为大于0
°
且小于等于90
°
时，硅片从清洗溶液中脱离后，最终所残留的清洗溶液相对较少，可以缩短后续烘干时间，降低烘干后硅片表面残留液体痕迹的可能性，有效提高了硅片成品率。
15.在一种可能的实现方式中，上述转动连接组件包括转轴以及活动套设在转轴上的至少一个套筒。转轴设在底座上。承载部背离底座的一侧具有承载面。各个套筒设在承载部远离承载面的一侧。套筒的径向尺寸大于转轴的径向尺寸。基于此，上述承载部通过转轴与设在承载部远离承载面的一侧上的至少一个套筒来实现转动，活动套设在转轴上的套筒与转轴相配合旋转，降低了摩擦带来的影响，便于提拉机构倾斜花篮。
16.在一种可能的实现方式中，上述承载部具有相对的两个侧边。在相对的侧边设有花篮定位结构。基于此，花篮在承载部上可以被固定在花篮定位机构上，使得花篮在提拉时保持稳定，避免了花篮因意外滑动或颤动导致的硅片粘连或除去液体不彻底等后果，进而影响到硅片质量。
17.在一种可能的实现方式中，上述底座靠近承载部的一面具有多组安装部。多组安装部沿着垂直于转轴的方向分布。上述转动连接组件设在相应组安装部上。由于多组安装部沿着垂直于转轴的方向分布，使得在需要不同倾斜角度提拉承载结构时，可以调整转动连接组件所含有的转轴与不同安装部的距离，进而改变第一预设角度。
18.在一种可能的实现方式中，每组安装部包括至少一个设在底座上的安装槽或安装
架。
19.在一种可能的实现方式中，各组安装部的高度相同或不同。
20.在一种可能的实现方式中，上述翘板机构还包括多组可拆卸连接件，每组可拆卸连接件将转轴固定在相应组安装部上。转轴通过可拆卸连接件可拆卸地安装于相应组安装部上上的安装架或安装槽上，从而实现了整个翘板机构的可拆卸，便于更换。
21.在一种可能的实现方式中，上述承载结构还包括两个限位件。两个限位件沿着上述提拉装置的提拉方向分布在清洗槽侧壁。上述翘板机构位于两个限位件之间。两个限位件与翘板机构配合，使得翘板机构在上升到最高位和处在最低位时可以保持水平，最高位的水平状态与其他槽的水平状态一致，有利于传送机构实现取放花篮的功能；最低位处于水平状态，使得清洗溶液将硅片清洗得更彻底，进而使得硅片质量有所提升。
22.在一种可能的实现方式中，上述提拉机构包括框架以及设在框架上的提拉驱动机构。框架与底座连接。上述提拉驱动机构包括至少一种直线升降机构，该直线升降机构为丝杆螺母升降机构、滑块导轨升降机构等。这些直线升降机构的驱动方式可以为电动、气动或液压等方式，此处不做详述。
23.在一种可能的实现方式中，提拉装置还包括设在承载结构上的至少一个支撑部。至少一个支撑部与清洗槽接触。各个支撑部均为转动支撑部。各个支撑部的导向方向与提拉机构的提拉方向相同。基于此，至少一个支撑部可以在提拉机构与清洗槽之间起支撑作用，在提拉机构提拉花篮时，至少一个支撑部支撑提拉机构并起到助力作用，使得提拉机构不易变形。此外，在提拉机构提拉花篮时转动支撑部还可以起到减少摩擦和导向的作用，支撑部的导向方向与上述提拉机构的提拉方向相同，在提拉机构提拉花篮时支撑部可以起到导向作用，使得提拉机构的提拉过程更顺畅。
24.第二方面，本实用新型还提供一种硅片清洗系统，包括第一方面或第一方面任一可能的实现方式描述的提拉装置。
25.第二方面提供的硅片清洗系统的有益效果与第一方面或第一方面任一可能的实现方式描述的提拉装置的有益效果相同，此处不做赘述。
附图说明
26.此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
27.图1为本实用新型实施例提供的硅片清洗系统的结构示意图；
28.图2为本实用新型实施例提供的提拉装置的结构示意图；
29.图3a为相关技术中花篮内硅片的倾斜状态示意图；
30.图3b为本实用新型实施例中花篮内硅片的倾斜状态示意图；
31.图4a为本实用新型实施例中第二预设角度为0
°
的示意图；
32.图4b为本实用新型实施例中第二预设角度大于0
°
且小于等于90
°
的示意图；
33.图5为本实用新型实施例提供的承载结构的结构示意图；
34.图6为本实用新型实施例提供的翘板机构的结构示意图；
35.图7为本实用新型实施例提供的花篮的结构示意图；
36.图8为本实用新型实施例提供的提拉装置的主视图；
37.图9为本实用新型实施例提供的提拉机构的主视图；
38.图10为本实用新型实施例提供的提拉装置的侧视图。
39.其中：
40.1-提拉装置，2-清洗槽，
41.20-第一限位件，21-第二限位件，
42.12-花篮，120-硅片，
43.10-提拉机构，11-承载结构，
44.110-底座，111-翘板机构，
45.α-第一预设角度，β-第二预设角度，
46.1110-承载部，1111-转动连接组件，
47.3-承载部1110的中心轴，1110a-横梁，
48.1111a-转轴，1111b-第一套筒，
49.1111c-第二套筒，1112-第一花篮定位机构，
50.1113-第二花篮定位机构，1114-第一安装部，
51.1115-第二安装部，112-牵引架，
52.1116-l型限位架，1117-柱状限位块，
53.1120-第一滚轮，1121-第二滚轮，
54.100-框架，101-提拉驱动机构，
55.1010-丝杆螺母升降机构，1011-第一滑块导轨升降机构，
56.1012-第二滑块导轨升降机构，1013-电机，
57.1011a-第一滑轨，1012a-第二滑轨，
58.1011b-第一滑块，1012b-第二滑块，
59.102-连接架，13-第一连接臂，
60.14-第二连接臂，4-提拉方向，
61.121-凸出件。
具体实施方式
62.为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
63.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
64.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。“若干”的含义是一个或一个以上，除非另有明确具体的限定。
65.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
66.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
67.随着世界经济的不断发展，现代化建设对高效能源需求不断增长。作为绿色能源以及人类可持续发展的主要能源的一种，太阳能资源受到了世界各国的重视。光伏发电就是一种对太阳能资源进行“光-电”转换的利用方式，具有能量转换过程简单、无噪声、无污染排放、发电效率高等优点，得到了大力发展。作为光伏发电的一种基础材料，硅片的市场需求非常广泛。硅片生产是光伏产业链中的一个重要环节。通常，硅片由硅锭或硅棒切割而成，切割好的硅片需要进行清洗，然后再进入下一工段。目前，在清洗开始前，硅片被竖直放入花篮的插片槽内，然后利用清洗机清洗硅片。当清洗机清洗硅片后，提拉装置提拉承载硅片的花篮脱离清洗机。但是，在提拉承载硅片的花篮时，花篮内的硅片之间容易出现粘连问题，导致硅片从清洗机脱离后，硅片表面残留有大量清洗溶液。因此，硅片清洗后进行烘干时，不易烘干，还会出现湿片、脏污等问题，降低了烘干效率，影响了硅片质量。
68.图1示例出本实用新型实施例提供的硅片清洗系统的结构示意图。如图1 所示，本实用新型实施例提供的硅片清洗系统包括提拉装置1，还可以包括清洗槽2。该清洗槽2可以与提拉装置1配合，实现硅片的清洗。清洗槽2可以盛放清洗溶液，清洗溶液可以为水或其它可以实现硅片120表面污渍清洗的液体。清洗槽2靠近提拉装置1的侧壁上设有第一限位件20和第二限位件21，提拉装置1位于两个限位件之间。第一限位件20和第二限位件21可以与提拉装置1 配合，一方面可以限定提拉装置1所能抵达的最高位和最低位，另一方面，还可以使得提拉装置1在最高位和最低位时可以保持水平。
69.采用本实用新型实施例提供的提拉装置1与清洗槽2配合进行硅片清洗的过程包括如下步骤：
70.第一步，将硅片120放入花篮12内，将花篮12放至提拉装置1上；
71.第二步，将提拉装置1放入盛装有清洗溶液的清洗槽2内；
72.第三步，提拉装置1下降，至与第二限位件21相接触，配合使花篮达到水平状态；
73.第四步，提拉装置向上提拉花篮12，此时花篮处于倾斜状态；
74.第五步，提拉装置1向上提升，与第一限位件20接触，配合使花篮达到水平状态，便于传送机构取放花篮12。
75.通过上述硅片清洗系统的组成和硅片清洗过程可知，本实用新型实施例提供的硅片清洗系统避免了在清洗过程中相邻的硅片120出现粘连的情况，减少了在提拉上升过程中附着在硅片120上的大量清洗溶液，使硅片120更容易烘干，减少了品质不良的硅片120的生产，有效提高了硅片120的成品率，同时大幅缩短了烘干时间，提高了烘干效率，进而提高了设备产能。
76.图2示例出了本实用新型实施例提供的提拉装置的结构示意图。如图1和图2所示，本实用新型实施例提供的提拉装置1包括提拉机构10和承载结构11。承载结构11包括底座110以及翘板机构111。底座110机械连接于提拉机构10，翘板机构111安装在底座110。
77.如图1和图2所示，翘板机构111用于承载花篮12，使提拉机构10从清洗槽2内以第一预设角度α倾斜提起花篮12。具体实施时，如图1所示，当花篮 12内的硅片120清洗完成后，提拉机构10带动承载结构11上升，以第一预设角度α提起浸没在清洗槽2内的花篮12，花篮12在翘板机构111上保持向一侧倾斜的状态直至花篮12的底部离开液面，倾斜的角度为第一预设角度α。花篮12内的硅片120也以第一预设角度α倾斜着从清洗溶液中上升至离开液面。
78.图3a示例出了相关技术中花篮内硅片的倾斜状态示意图，如图3a所示，在现有的垂直提拉的提拉装置中，硅片120可能会出现如图3a所示的相邻的硅片120相互粘连的情况。图3b示例出了本实用新型实施例中花篮内硅片的倾斜状态示意图，如图3b所示，在本实用新型实施例提供的倾斜提拉的提拉装置1 中，相邻的硅片120均向同一方向倾斜，避免了相邻的硅片120粘在一起。
79.通过对比图3a和图3b所示的两种花篮12内硅片120在垂直提拉的提拉装置和在倾斜提拉的提拉装置1内的倾斜状态示意图可知，在提拉机构10提拉承载结构11的过程中，翘板机构111以第一预设角度α倾斜提起花篮12，使得花篮12所承载的各个硅片120可以沿着一个方向倾斜，进而避免出现相邻的硅片 120粘连在一起的问题。基于此，当提拉机构10提拉承载结构11离开清洗溶液的液面时，花篮12所承载的各个硅片120附着的清洗溶液可以顺利的从硅片120 表面滴落到清洗槽2内，从而减少硅片120表面残留的清洗溶液，以方便烘干硅片120，并减少硅片120出现湿片、脏污等问题的几率，进而保证硅片120的质量。
80.作为一种可能的实现方式，上述第一预设角度α大于0
°
且小于或等于30
°
。例如：第一预设角度α大于0
°
且小于或等于20
°
。又例如：第一预设角度α为5
°
、 10
°
、15
°
或20
°
，但不仅限于此。在这个角度范围内硅片120的倾斜角度合适，一方面可以减少相邻硅片120的粘连，另一方面避免了角度过大造成的硅片120倾倒，甚至碰撞等不良后果。
81.作为一种可能的实现方式，当上述提拉机构10提拉花篮12时，花篮12内的硅片120靠近清洗槽2的底部的至少一条棱边与液面具有第二预设角度β。第二预设角度β为0
°
～90
°
。图4a为本实用新型实施例提供的第二预设角度β为0
°
的示意图，图4b为本实用新型实施例提供的第二预设角度β大于0
°
且小于等于 90
°
的示意图。
82.如图4a所示，当上述第二预设角度β为0
°
时，硅片120的延伸面与清洗溶液的延伸面会相交于一条直线，花篮12内的硅片120靠近清洗槽2的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面平行。此时，在上述提拉机构10提拉花篮12至离开液面的过程中，花篮12内的硅片120保持倾斜的状态缓慢上升，硅片120 与清洗溶液液面的接触面积由平面逐渐变成线接触，最终硅片120离开液面。而且，当花篮12内的硅片120靠近清洗槽2的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面为线接触，在重力和清洗溶液表面张力的作用下，硅片120表面残留的清洗溶液最后汇聚到硅片120靠近清洗槽2的底部的棱边，形成沿着棱边分布的液滴。
83.如图4b所示，当上述第二预设角度β大于0
°
且小于等于90
°
时，在离开清洗溶液时，花篮122内的硅片120靠近清洗槽2的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面为点接触，二者的交点为硅片120底部的一个顶点。此时，在上述提拉机构10提拉花篮12至离开液面的过
程中，花篮12内的硅片120保持倾斜的状态缓慢上升，硅片120与清洗溶液液面的接触面积由平面逐渐变成点接触，最终硅片120离开液面。基于此，当花篮12内的硅片120靠近清洗槽2的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面为点接触，在重力和清洗溶液表面张力的作用下，硅片120上残留的清洗溶液沿着硅片120靠近清洗槽2的底部的至少一条棱边向下流，最终汇聚在硅片120底部的一个顶点，形成液滴。在硅片120 表面残留的清洗溶液体积相同的情况下，相对于沿着棱边分布的液滴来说，汇聚在硅片120底部顶点的液滴尺寸比较大，因此，在重力和表面张力的作用下，汇聚在硅片120底部顶点的液滴比较容易掉落到清洗槽2内，从而减少硅片120 表面残留的清洗溶液，以方便烘干硅片120，并减少硅片120出现湿片、脏污等问题的几率，进而保证硅片120的质量。
84.由上可见，当第二预设角度β为大于0
°
且小于等于90
°
时，硅片120从清洗溶液中脱离后，最终所残留的清洗溶液相对较少，可以缩短后续烘干时间，降低烘干后硅片120表面残留液体痕迹的可能性，有效提高了硅片120成品率。此外，在后续的烘干过程中，可以将花篮倾斜放置，倾斜方向与花篮12内的硅片120靠近清洗槽2的底部的至少一条棱边与液面形成的第二预设角度β相反，使得硅片120在离开清洗溶液液面到烘干的过程中，倾斜角度变化幅度较大，可以进一步减少硅片120表面残留的清洗溶液，提高烘干效率，进而提高产品质量。
85.图5示例出了本实用新型实施例提供的承载结构的结构示意图，图6示例出了本实用新型实施例提供的翘板机构的结构示意图。
86.作为一种可能的实现方式，如图5和图6所示，上述翘板机构111包括承载部1110以及转动连接组件1111。承载部1110通过转动连接组件1111设在底座110上。转动连接组件1111和承载部1110分别具有中心轴。转动连接组件 1111的中心轴偏离承载部1110的中心轴3。承载部1110远离底座110的表面与底座110靠近承载部1110的表面形成上述第一预设角度α。承载部1110通过转动连接组件1111设在底座110上，而转动连接组件1111的中心轴偏离承载部1110的中心轴3，使得承载部1110在无外力作用下总是处于向一侧倾斜的状态，承载部1110承载的花篮12也相应保持倾斜状态。因此，在提拉机构10提拉承载结构11的过程中，承载部1110可保证所承载的花篮12也处在倾斜状态，使得花篮12内的硅片120均向同一方向倾斜，从而避免了相邻的硅片120粘连在一起，硅片120脱去液体更彻底。
87.示例性的，如图5所示，转动连接组件1111的中心轴位于承载部1110的中心轴3的左侧，使得承载部1110呈现左高右低的状态。基于此，提拉机构10 提拉花篮12时，花篮12呈现左高右低的状态，花篮内的硅片120也相应地倾向右侧。
88.为了实现沥出液体的功能，上述承载部1110及底座110均可以为方便沥出液体的结构。下面结合附图举例描述承载部1110和底座110的结构，应理解一下举例仅作为解释，不作为限定。如图4所示，上述承载部1110及底座110均为框架式结构，可以最大程度上沥出液体，使得提拉过程中沥出液体比较快速，缩短了硅片脱水所需的时间，从而使得硅片脱水更彻底。承载部1110具有横梁 1110a，转动连接组件1111的中心轴与横梁1110a的中心轴为同一条直线。
89.在一种可选方式中，上述承载部1110具有相对的两个侧边。在相对的侧边设有花篮定位结构。如图6所示，上述承载部1110具有四个侧边，当上述两个花篮定位机构分别设在如图6中所示的两侧边位置时，在上述提拉机构10提拉花篮12的过程中，上述第二预设角
度β为0
°
，花篮12内的硅片120与清洗溶液液面的接触面积逐渐由平面变成线接触；当上述两个花篮定位机构分别设在与图6中所示的侧边相接的另外两侧边时，在上述提拉机构10提拉花篮12的过程中，上述第二预设角度β大于0
°
且小于等于90
°
，花篮12内的硅片120与清洗溶液液面的接触面积逐渐由平面变成点接触。定义两个花篮定位机构分别为第一花篮定位机构1112和第二花篮定位机构1113。花篮12在承载部1110上可以被固定在第一花篮定位机构1112和第二花篮定位机构1113上，使得花篮 12在提拉时保持稳定，避免了花篮12因意外滑动或颤动导致的硅片120粘连或除去液体不彻底等后果，进而影响到硅片120的质量。
90.图7示例出了本实用新型实施例提供的花篮的结构示意图。如图7所示，该花篮12的相对的两个侧面的底部具有多个凸出件121，两个侧面的凸出件121 关于花篮12的中心轴对称。
91.在一种示例中，如图5和图6所示，每个花篮定位机构包括设在相应侧边的定位板，每个定位板具有多个定位槽。两个定位机构所包括的每个定位槽对称分布，每个定位槽沿相应侧边的延伸方向分布。定位板的板面与承载部1110 的上表面的夹角为钝角。定位板的厚度为3.0～2.5mm，宽度为6～8cm。每个花篮定位机构包括与承载部1110呈对口倾斜分布的定位板，对花篮12的放置起到导向作用；每个定位板具有多个对称分布的定位槽，每个定位槽沿相应侧边的延伸方向分布，便于与花篮12两侧的凸出件121相配合，使得花篮12可以被牢固地卡在定位槽里，避免了因固定不牢造成的晃动。
92.示例性的，如图6所示，上述每个定位板具有四个定位槽，定位板为厚度为2.7mm，宽度为7cm的不锈钢钢板。
93.在一种可选方式中，如图6所示，上述转动连接组件1111包括转轴1111a 以及活动套设在转轴1111a上的至少一个套筒。转轴1111a设在底座110上。承载部1110背离底座110的一侧具有承载面。各个套筒设在承载部1110远离承载面的一侧。套筒的径向尺寸大于转轴1111a的径向尺寸。基于此，上述承载部1110通过转轴1111a与设在承载部1110远离承载面的一侧上的至少一个套筒来实现转动，活动套设在转轴1111a上的套筒与转轴1111a相配合旋转，降低了摩擦带来的影响，便于提拉机构10倾斜花篮12。
94.示例性的，如图5和图6所示，套筒均固定在横梁1110a远离承载面的一侧。当套筒的数量为两个时，定义这两个套筒分别为第一套筒1111b和第二套筒1111c，第一套筒1111b和第二套筒1111c可以分别套设在转轴1111a两端，使得承载部1110在转动时更加稳定，避免了因套筒位置过于集中造成的承载部 1110在转动时的颤动，进而保证了硅片120除去液体更彻底，提高了硅片120 的清洗质量。
95.示例性的，上述底座110靠近承载部1110的一面具有多组安装部。各组安装部的高度相同或不同。多组安装部沿着垂直于转轴1111a的方向分布。上述转动连接组件1111设在相应组安装部上。由于多组安装部沿着垂直于转轴1111a 的方向分布，使得在需要不同倾斜角度提拉承载结构11时，可以调整转动连接组件1111所含有的转轴1111a与不同安装部的距离，进而改变第一预设角度α。
96.示例性的，如图6所示，上述安装部的数量为两个，定义为第一安装部1114 和第二安装部1115。两个安装部分设在底座110两端，转动连接组件1111的两端分别设在相应安装部上。使得转动连接组件1111更稳定，保证了硅片120在提拉过程中的稳定性。
97.示例性的，上述翘板机构111还可以包括多组可拆卸连接件，可拆卸连接件可以为
抱夹组件或螺栓组件等，此处不做详述。每组可拆卸连接件将转轴 1111a固定在相应组安装部上。转轴1111a通过可拆卸连接件可拆卸地安装于相应组安装部上的安装架或安装槽上，从而实现了整个翘板机构111的可拆卸，便于更换。此外，由于定位板以及定位板具有的定位槽需要频繁与花篮12接触，定位板本身也较薄，在提拉过程中容易出现变形及损坏，通过上述可拆卸连接件可以实现整个承载部1110的可拆卸，从而实现了定位板的更换。
98.举例来说，每组安装部包括至少一个设在底座110上的安装槽或安装架。当安装部包括多个安装槽或安装架时，转轴1111a可以通过卡槽与可拆卸连接组件或滑轨与可拆卸连接组件的结构实现转轴1111a与底座110之间位置或高度的改变，从而改变翘板机构111翘起的角度，也就是改变第一预设角度α的大小。例如：如图6所示，每组安装部包括一个安装槽，转轴1111a两端分别安装在相应安装槽内。
99.作为一种可能的实现方式，如图2所示，提拉装置1还包括设在承载结构 11上的至少一个支撑部。至少一个支撑部与清洗槽2接触。各个支撑部均为转动支撑部。各个支撑部的导向方向与提拉机构10的提拉方向4相同。承载结构 11还包括牵引架112，至少一个支撑部设在牵引架112上。底座110通过牵引架112与提拉机构10连接。当硅片清洗系统清洗花篮12内的硅片120的时候，牵引架112位于清洗槽2内的清洗溶液液面下；当硅片清洗系统结束对花篮12 内硅片120的清洗的时候，提拉机构10将上述牵引架112提拉至清洗槽2内的清洗溶液液面上方。至少一个转动支撑部的转动面与清洗槽2接触，各个转动支撑部的导向方向与提拉机构10的提拉方向4相同。在提拉机构10提拉花篮 12时，基于此，至少一个转动支撑部可以在承载结构11与清洗槽2之间起支撑作用，在提拉机构10提拉花篮12时，转动支撑部支撑承载结构11并起到助力作用，使得承载结构11不易变形。此外，在提拉机构10提拉花篮12时转动支撑部还可以起到减少摩擦和导向的作用，支撑部的导向方向与提拉机构10的提拉方向4相同，使得提拉机构10的提拉过程更顺畅。
100.图8示例出了本实用新型实施例提供的提拉装置的主视图。
101.示例性的，如图8所示，上述支撑部为滚轮，支撑部的数量为两个。定义两个滚轮分别为第一滚轮1120和第二滚轮1121。上述牵引架112具有两个立柱，每个滚轮安装在相应立柱的下端，第一滚轮1120和第二滚轮1121关于牵引架 112的中心轴对称分布。在提拉的过程中，第一滚轮1120和第二滚轮1121的滚动面与清洗槽2相接触，不仅起到了支撑、助力和导向的作用，还平衡了牵引架112的两端，使得花篮12的提拉过程更平稳流畅。
102.作为一种可能的实现方式，上述承载结构11还可以包括两个限位件。两个限位件沿着提拉装置1的提拉方向4分布在清洗槽2的侧壁。翘板机构111位于两个限位件之间。两个限位件即上述第一限位件20和第二限位件21。第一限位件20和第二限位件21与翘板机构111配合，使得翘板机构111在上升到最高位和处在最低位时可以保持水平，最高位的水平状态与其他槽的水平状态一致，有利于传送机构实现取放花篮12的功能；最低位的水平状态与其他槽的水平状态一致，有利于清洗溶液将硅片120清洗得更彻底，进而使得硅片120质量有所提升。
103.在一种示例中，如图5和图6所示，上述翘板机构111还包括与两个限位件进行配合的两个限位部。上述翘板机构111具有两个翘起侧，每个限位部设在相应翘起侧。
104.示例性的，如图5所示，其中一个限位部为挂设在所述牵引架112上的l 型限位架1116，另一个限位部为伸出承载部1110的柱状限位块1117。在花篮 12放置到提拉装置1上
处于最低位时，柱状限位块1117与清洗槽2的侧壁上的位于翘板机构111下方的第二限位件21配合，第二限位件21在柱状限位块1117 的下方支撑起整个承载部1110，使得翘板机构111在最低位时呈现水平状态。在花篮12被提升至花篮12的底部离开液面后，l型限位架1116与清洗槽2的侧壁上的位于翘板机构111上方的第一限位件20配合，第一限位件20在l型限位架1116的上方将承载部1110向下压，使得翘板机构111在最高位时呈现水平状态，便于后续的传送机构取放花篮12。此外，l型限位架1116还可以与牵引架112实现对翘板机构111的导向作用。
105.图9示例出了本实用新型实施例提供的提拉机构的主视图，图10示例出了本实用新型实施例提供的提拉装置的侧视图。
106.作为一种可能的实现方式，如图9所示，上述提拉机构10包括框架100以及设在框架100上的提拉驱动机构101。框架100与底座110连接。上述提拉驱动机构101包括至少一种直线升降机构，该直线升降机构为丝杆螺母升降机构、滑块导轨升降机构等。这些直线升降机构的驱动方式可以为电动、气动或液压等方式，此处不做详述。此外，提拉驱动机构101的驱动速度很慢，为2mm/s ～4mm/s，同时由于清洗溶液的表面张力作用，可以让硅片120上尽可能少得沾上清洗溶液，进而避免硅片120上残留液体痕迹的产生。
107.示例性的，如图9所示，上述提拉驱动机构101包括丝杆螺母升降机构和滑块导轨升降机构两种直线升降机构。滑块导轨升降机构的数量为两个，定义为第一滑块导轨升降机构1011和第二滑块导轨升降机构1012。丝杆螺母升降机构1010位于第一滑块导轨升降机构1011和第二滑块导轨升降机构1012之间。丝杆螺母升降机构1010、第一滑块导轨升降机构1011和第二滑块导轨升降机构 1012通过支架连接，以保证三者的升降同步性和结构稳定性。
108.举例来说，如图2和图9所示，丝杆螺母升降机构1010包含丝杆以及螺纹连接在丝杆上的螺纹件。第一滑块导轨升降机构1011包括第一滑轨1011a以及设在第一滑轨1011a上的第一滑块1011b。第二滑块导轨升降机构1012包括第二滑轨1012a以及设在第二滑轨1012a上的第二滑块1012b。该支架包括连接架 102以及设在连接架102上的两个连接臂，定义两个连接臂为第一连接臂13和第二连接臂14。第一连接臂13和第二连接臂14均连接在牵引架112上。
109.如图10所示，当升降机构的驱动方式为电动式驱动时，丝杆螺母升降机构 1010下方固定有电机1013。如图2和图9所示，在提拉装置1提拉花篮12的过程中，首先由电机1013驱动丝杆螺母升降机构1010、第一滑块导轨升降机构 1011和第二滑块导轨升降机构1012同步缓慢上升，同时，连接架102通过第一连接臂13和第二连接臂14带动牵引架112上升，进而实现了花篮12的缓慢提拉，提拉速度为2mm/s，使硅片120上的液体被最大程度去除，只留下一层薄薄的液体膜，让干燥变得非常容易，并且硅片120上不会留下液体的痕迹，提高了硅片120的质量。
110.在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
111.以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权
利要求的保护范围为准。

技术特征：
1.一种提拉装置，其特征在于，用于提拉浸没在清洗槽内的花篮，所述提拉装置包括机械连接的提拉机构和承载结构；其中，所述承载结构包括底座以及翘板机构，所述底座机械连接于所述提拉机构，所述翘板机构安装在所述底座；所述翘板机构用于承载所述花篮，使所述提拉机构从所述清洗槽内以第一预设角度倾斜提起所述花篮。2.根据权利要求1所述的提拉装置，其特征在于，所述翘板机构包括承载部以及转动连接组件，所述承载部通过所述转动连接组件设在所述底座上，所述转动连接组件和所述承载部分别具有中心轴，所述转动连接组件的中心轴偏离承载部的中心轴，所述承载部远离所述底座的表面与所述底座靠近所述承载部的表面形成所述第一预设角度。3.根据权利要求1所述的提拉装置，其特征在于，所述第一预设角度大于0
°
且小于或等于30
°
；或，所述第一预设角度大于0
°
且小于或等于20
°
。4.根据权利要求1所述的提拉装置，其特征在于，当所述提拉机构提拉所述花篮时，所述花篮内的硅片靠近所述清洗槽的底部的至少一条棱边与液面具有第二预设角度，所述第二预设角度为0
°
～90
°
。5.根据权利要求2所述的提拉装置，其特征在于，所述转动连接组件包括转轴以及活动套设在所述转轴上的至少一个套筒，所述转轴设在所述底座上，所述承载部背离所述底座的一侧具有承载面，各个所述套筒设在所述承载部远离承载面的一侧，所述套筒的径向尺寸大于所述转轴的径向尺寸。6.根据权利要求2所述的提拉装置，其特征在于，所述承载部具有相对的两个侧边，在相对的所述侧边设有花篮定位结构。7.根据权利要求5所述的提拉装置，其特征在于，所述底座靠近所述承载部的一面具有多组安装部，多组所述安装部沿着垂直于所述转轴的方向分布，所述转动连接组件设在相应组所述安装部上；其中，每组所述安装部包括至少一个设在所述底座上的安装槽或安装架；和/或，各组所述安装部的高度相同或不同；和/或，所述翘板机构还包括多组可拆卸连接件，每组所述可拆卸连接件将所述转轴固定在相应组所述安装部上。8.根据权利要求1所述的提拉装置，其特征在于，所述承载结构还包括两个限位件；两个所述限位件沿着所述提拉装置的提拉方向分布在所述清洗槽侧壁，所述翘板机构位于两个所述限位件之间。9.根据权利要求1所述的提拉装置，其特征在于，所述提拉机构包括框架以及设在所述框架上的提拉驱动机构，所述框架与所述底座连接；和/或，所述提拉装置还包括设在所述承载结构上的至少一个支撑部，至少一个所述支撑部与所述清洗槽接触，各个所述支撑部均为转动支撑部，各个所述支撑部的导向方向与所述提拉机构的提拉方向相同。10.一种硅片清洗系统，其特征在于，包括权利要求1～9任一项所述提拉装置。

技术总结
本实用新型公开一种提拉装置及硅片清洗系统，涉及光伏技术领域，以最大程度减少硅片清洗结束后表面黏附的清洗溶液，从而提高烘干效果，有效提高成品率。所述提拉装置包括机械连接的提拉机构和承载结构；其中，所述承载结构包括底座以及翘板机构，所述底座机械连接于所述提拉机构，所述翘板机构安装在所述底座；所述翘板机构用于承载所述花篮，使所述提拉机构从所述清洗槽内以第一预设角度倾斜提起所述花篮。所述硅片清洗系统包括上述技术方案所提的提拉装置。本实用新型提供的提拉装置用于提拉浸没在清洗槽内的花篮。提拉浸没在清洗槽内的花篮。提拉浸没在清洗槽内的花篮。


技术研发人员：孙前高
受保护的技术使用者：禄丰隆基硅材料有限公司
技术研发日：2021.07.07
技术公布日：2022/3/8