一种磁畴成像设备的光路校正方法与流程

本发明涉及磁畴成像，尤其涉及一种磁畴成像设备的光路校正方法。

背景技术：

1、目前的磁畴成像设备中，由光源、起偏器、物镜等构成被测物的入射光路，物镜、检偏器、相机等构成被测物的反射光路。

2、在对被测物进行检测时，要求光源发出的检测光经入射光路到达被测物并在被测物的被测位置形成光斑，因此，需要在开始检测前对光路进行相应调整。由于检测光在被测物的被测位置处形成的光斑通常较小，例如部分情形下的光斑大小只有几微米，因此在调整光路时，需要较高的精度，使得光路调整过程较为困难，效率不高。

技术实现思路

1、本发明提供了一种磁畴成像设备的光路校正方法，用于解决上述技术问题中的至少一个。

2、本发明采用下述技术方案：

3、一方面，本发明提供了一种磁畴成像设备的光路校正方法，所述方法包括：使光源发出的检测光入射数字微镜器件dmd；通过所述数字微镜器件dmd的预设反射区域将所述检测光向被测物所在位置反射；当所述被测物上形成光斑时，计算所述光斑的光强，通过所述光强调整所述数字微镜器件dmd的预设反射区域。

4、在本发明的一种可能实现方式中，通过所述数字微镜器件dmd的预设反射区域将所述检测光向被测物所在位置反射之前，所述方法还包括：调整所述数字微镜器件dmd的各个次级反射区域依次对所述检测光进行反射；根据使所述检测光在所述被测物上形成光斑的次级反射区域，确定所述预设反射区域。

5、在本发明的一种可能实现方式中，通过所述光强调整所述数字微镜器件dmd的预设反射区域，包括：当所述数字微镜器件dmd上设置有一个次级反射区域时，调整所述次级反射区域的位置；对比调整前后所述被测物上形成光斑的光强，将所述预设反射区域调整为包含较强光强所对应的次级反射区域。

6、在本发明的一种可能实现方式中，若调整前后所述被测物上形成光斑的光强相等，则结束所述预设反射区域的调整。

7、在本发明的一种可能实现方式中，通过所述光强调整所述数字微镜器件dmd的预设反射区域，包括：当所述数字微镜器件dmd上设置有至少两个次级反射区域时，对比所述次级反射区域分别反射的检测光在所述被测物上形成光斑的光强；调整所述数字微镜器件dmd，将所述次级反射区域向所述光强中最大光强所对应的次级反射区域的位置移动；将所述预设反射区域调整为包含移动后的所述次级反射区域。

8、在本发明的一种可能实现方式中，若移动后的所述次级反射区域分别反射的检测光在所述被测物上形成光斑的光强相等和/或光强差值在预设差值范围内，则结束所述预设反射区域的调整。

9、在本发明的一种可能实现方式中，通过所述光强调整所述数字微镜器件dmd的预设反射区域，包括：当所述数字微镜器件dmd上设置有至少三个次级反射区域时，根据所述次级反射区域分别反射的检测光在所述被测物上形成光斑的光强、所述次级反射区域的位置，计算检测光在所述数字微镜器件dmd上的位置；根据检测光在所述数字微镜器件dmd上的位置，调整所述预设反射区域的位置。

10、在本发明的一种可能实现方式中，以所述次级反射区域中心、检测光在所述数字微镜器件dmd上所形成的检测光光斑中心之间的距离为d，以所述次级反射区域所对应的所述光斑的光强为w，标定d与w间的映射关系d= f(w)；根据三个所述次级反射区域的位置、d= f(w)，通过三角定位的方式计算检测光在所述数字微镜器件dmd上的位置。

11、在本发明的一种可能实现方式中，光斑中心在所述数字微镜器件dmd上的坐标为( xl, yl)；三个所述次级反射区域在所述数字微镜器件dmd上的坐标、对应的光斑的光强分别为：第一次级反射区域，坐标为( x1, y1)，对应光强为 w1；第二次级反射区域，坐标为( x2, y2)，对应光强为 w2；第三次级反射区域，坐标为( x3, y3)，对应光强为 w3；

12、通过解如下方程组的方式计算( xl, yl)，以计算检测光在所述数字微镜器件dmd上的位置：

13、。

14、在本发明的一种可能实现方式中，所述次级反射区域在所述数字微镜器件dmd上呈正多边形排列，若移动后的所述次级反射区域分别反射的检测光在所述被测物上形成光斑的光强相等和/或光强差值在预设差值范围内，则将所述预设反射区域的中心调整至所述正多边形的中心位置。

15、本发明提供的一种磁畴成像设备的光路校正方法，具有以下有益效果：

16、本发明中的光路结构中采用了数字微镜器件dmd，通过数字微镜器件dmd上设置的不同反射区域或反射单元对检测光进行反射，可改变检测光入射被测物时的入射面或入射方向，不仅能够适应不同被测物或不同磁畴的检测需求，而且通过改变反射区域来改变入射面或入射方向的方案，不需要再改变光源的位置，降低了光路的安装成本和维护成本。同时，通过光路结构中引入的数字微镜器件dmd，通过检测光在被测物上形成光斑光强的强弱，来调整数字微镜器件dmd上的预设反射区域，仅通过调整数字微镜器件dmd即可实现光路的对准或校正，降低了光路的调整难度和安装难度。并且，数字微镜器件dmd的反应速度较快，可实现光路的快速对准和调整，也提高了光路对准的效率。

技术特征：

1.一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，通过所述数字微镜器件dmd的预设反射区域将所述检测光向被测物所在位置反射之前，所述方法还包括：

3.根据权利要求1所述的一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，通过所述光强调整所述数字微镜器件dmd的预设反射区域，包括：

4.根据权利要求3所述的一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，通过所述光强调整所述数字微镜器件dmd的预设反射区域，包括：

6.根据权利要求5所述的一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，通过所述光强调整所述数字微镜器件dmd的预设反射区域，包括：

8.根据权利要求7所述的一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，

10.根据权利要求9所述的一种磁畴成像设备的光路校正方法，其特征在于，

技术总结
本发明公开了一种磁畴成像设备的光路校正方法，属于磁畴成像技术领域。方法包括：使光源发出的检测光入射数字微镜器件DMD；通过所述数字微镜器件DMD的预设反射区域将所述检测光向被测物所在位置反射；当所述被测物上形成光斑时，计算所述光斑的光强，通过所述光强调整所述数字微镜器件DMD的预设反射区域。本发明通过上述方案可快速、简单地实现光路对准或光路调整，降低了光路调整的难度。

技术研发人员：张学莹,杜洪磊,孙天然,欧阳玉东,王麟
受保护的技术使用者：致真精密仪器（青岛）有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/12/5