用于光学邻近校正的方法、电子设备及计算机可读存储介质与流程

本公开的实施例主要涉及集成电路，并且更具体地，涉及用于光学邻近校正的方法、电子设备及计算机可读存储介质。

背景技术：

1、计算光刻技术是90年代至今图形微缩技术继续向前发展的重要推动因素。计算光刻旨在现有光刻机等硬件环境不变的情况下，通过提升分辨率等软件技术，使得曝光最小尺寸能够突破硬件的限制，极大地推动了半导体先进工艺向前发展。

2、先进工艺节点的集成电路芯片生产，通常有赖于图形化技术。图形化技术的核心是光学邻近校正（optical proximity correction，简称opc），甚至通常会以opc来指代所有的计算光刻技术。在具体应用opc技术对芯片设计版图进行修正的时候，往往需要数千乃至数万cpu核心的计算资源（基于不同的技术节点，先进技术节点将需要更多计算资源），因此opc修正程序的算法优化是一个提高效率降低成本的关键。

技术实现思路

1、根据本公开的示例实施例，提供了一种用于光学邻近校正的方案，以至少部分克服上述或者其他潜在缺陷。

2、根据本公开的一个方面，提供了一种用于光学邻近校正的方法。该方法包括：确定光学邻近校正opc模型中的光学信号部分；基于锚点以及光学信号部分生成opc模型的简化模型；确定光学信号部分在opc模型的信号部分中所占的比率；基于比率与校正循环中衰减系数的数值关系，以确定在校正循环中使用的模型对版图进行校正。

3、本公开的一些实施例的方案，针对先进工艺的全版图opc修正，采用从粗糙到精确的方法，先使用快速模型达到初步结果，而后采用精确模型修正到位。在最终修正精度相同的情况下，减少约60%的模型仿真时间，进而减少45~50%的opc修正时间。

4、在本公开的第二方面，提供了一种电子设备。该电子设备包括处理器；以及与处理器耦合的存储器，存储器具有存储于其中的指令，指令在被处理器执行时使设备执行动作，该动作包括确定光学邻近校正opc模型中的光学信号部分；基于锚点以及光学信号部分生成opc模型的简化模型；确定光学信号部分在opc模型的信号部分中所占的比率；以及基于比率与校正循环中衰减系数的数值关系，以确定在校正循环中使用的模型对版图进行校正。

5、在一些实施例中，基于锚点以及光学信号部分生成opc模型的简化模型包括：将光学信号部分作为简化模型的主信号部分；由光学信号部分生成版图的仿真信号；基于锚点确定版图中图形的关键尺寸；以及基于关键尺寸以及仿真信号来确定简化模型的信号阈值。

6、在一些实施例中，由光学信号部分生成版图的仿真信号包括：基于光学信号部分中的光学信号以及版图而生成仿真信号。

7、在一些实施例中，利用以下公式生成仿真信号：new_simulation_signal =optical @ layout；其中，new_simulation_signal为简化模型生成的仿真信号，optical表示opc模型中的光学信号，@表示卷积符号，layout表示版图。

8、在一些实施例中，基于锚点确定图形的关键尺寸包括：响应于简化模型在锚点上的仿真线宽与在晶圆上的对应的量测线宽一致，将仿真线宽作为关键尺寸。

9、在一些实施例中，确定光学信号部分在opc模型的信号部分中所占的比率包括：确定opc模型中的光学信号的积分；分别确定opc模型的各个核函数信号的积分与相应的系数的乘积；确定各个乘积之和与积分二者的和值；以及将光学信号的积分与和值的比值确定为比率。

10、在一些实施例中，确定光学信号部分在opc模型的信号部分中所占的比率包括利用以下公式计算比率：

11、；其中k表示比率，optical表示opc模型中的光学信号，kernelj表示第j个核函数的信号，cj表示第j个核函数的信号的系数，m为正整数，表示第m个核函数。

12、在一些实施例中，响应于比率不大于所述校正循环中的衰减系数而在所述校正循环中用opc模型对版图进行校正包括：在最后的预定数量的校正循环中利用opc模型对版图进行校正。

13、在一些实施例中，预定数量大于或者等于3。

14、在一些实施例中，在各个校正循环中，每个校正循环中的衰减系数小于或等于紧邻在校正循环之后的校正循环中的衰减系数。

15、在本公开的第三方面中，提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现根据本公开的第一方面的方法。

16、通过下文描述将会理解，本公开的技术方案能够节省计算资源并显著降低模型仿真及校正的时间。

17、提供
技术实现要素：
部分是为了以简化的形式来介绍对概念的选择，它们在下文的具体实施方式中将被进一步描述。发明内容部分无意标识本公开的关键特征或主要特征，也无意限制本公开的范围。

技术特征：

1.一种用于光学邻近校正的方法，包括：

2. 根据权利要求1所述的方法，其中基于所述比率与校正循环中衰减系数的数值关系以确定在所述校正循环中使用的模型对版图进行校正包括：

3.根据权利要求1所述的方法，其中基于锚点以及所述光学信号部分生成所述opc模型的简化模型包括：

4.根据权利要求3所述的方法，其中由所述光学信号部分生成版图的仿真信号包括：

5. 根据权利要求4所述的方法，其中包括利用以下公式生成所述仿真信号：

6.根据权利要求3所述的方法，其中基于所述锚点确定所述版图中图形的关键尺寸包括：

7.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述光学信号部分在所述opc模型的信号部分中所占的比率包括：

8.根据权利要求7所述的方法，其中确定所述光学信号部分在所述opc模型的信号部分中所占的比率包括利用以下公式计算所述比率：

9.根据权利要求2所述的方法，其中响应于所述比率不大于所述校正循环中的衰减系数而在所述校正循环中用所述opc模型对所述版图进行校正包括：

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述预定数量大于或者等于3。

11.根据权利要求1所述的方法，其中：

12.一种电子设备，包括：

13. 根据权利要求12所述的电子设备，其中基于所述比率与校正循环中衰减系数的数值关系以确定在所述校正循环中使用的模型对版图进行校正包括：

14.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有机器可执行指令，当所述机器可执行指令在被处理器执行时，使得所述处理器实现根据权利要求1至11中任一项所述的方法。

技术总结
本公开的实施例涉及用于光学邻近校正的方法、电子设备及计算机可读存储介质。该方法包括：确定光学邻近校正OPC模型中的光学信号部分；基于锚点以及光学信号部分生成OPC模型的简化模型；确定光学信号部分在OPC模型的信号部分中所占的比率；以及基于所述比率与校正循环中衰减系数的数值关系，以确定在所述校正循环中使用的模型对版图进行校正。本公开的技术方案能够节省计算资源并显著降低模型仿真及校正的时间。

技术研发人员：请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名
受保护的技术使用者：全芯智造技术有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/12/5