用于制备放射性金属核素的固体靶电镀装置的制作方法

专利查询3月前  34


本技术属于放射性靶件制备领域,具体涉及一种用于制备放射性金属核素的固体靶电镀装置。


背景技术:

1、目前一般通过固体靶工艺生产金属核素。在固体靶工艺过程中,电镀是一项广泛使用但难度较大的技术。电镀得当的固体靶表面平整、厚度均匀、质地密实,非常适合后续的高能粒子轰击。目前医用回旋加速器使用的固体靶体积小、要求高,而靶体的金属价格非常昂贵,现有技术及设备,较难实现在小体积固体靶件上精准的电镀。


技术实现思路

1、为了解决上述问题,本实用新型提供一种用于制备放射性金属核素的固体靶电镀装置,能够实现在小体积固体靶件上精准电镀的目的。

2、为了实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:

3、用于制备放射性金属核素的固体靶电镀装置,包括基座和柱筒。其中,所述基座与柱筒通过螺纹连接;所述基座包括底座、下盖、金属电极片、密封圈和压板。

4、进一步地,所述底座上表面设有带外螺纹的凸台,所述凸台顶部设有凹槽,所述金属电极片固定于凹槽内。所述下盖带有中心螺纹孔和外螺纹,且所述中心螺纹孔与所述凸台的外螺纹相匹配;所述下盖的上表面还设有直径大于所述凸台的压板槽。

5、进一步地,所述密封圈位于所述压板和所述下盖之间;且所述密封圈外径与下盖的中心螺纹孔的内径相同。

6、进一步地,所述金属电极片的厚度略低于所述凹槽的高度;所述凸台顶部与所述压板槽底部位置齐平。

7、具体地,靶体在使用本装置时需安装置于金属电极片与密封圈之间。靶体直径小于金属电极片的直径,密封圈内径小于靶体直径。所述金属电极片加上靶体的总厚度与所述凹槽的高度相同,且所述靶体的上表面与所述压板槽的底部齐平。

8、更为具体地,所述金属电极片为铜电极片。

9、进一步地,所述压板槽内分布有多个固定孔;所述压板上分布有多个与所述固定孔位置及大小相匹配的通孔。

10、优选地,所述固定孔和通孔数目分别为4个。

11、进一步地,所述压板与所述下盖的压板槽大小一致;所述压板通过贯穿所述通孔的固定栓与所述固定孔作用,并可拆卸式地固定于所述下盖上。

12、优选地,所述固定栓为螺栓。

13、进一步地,靶体直径小于金属电极片的直径,密封圈内径小于靶体直径;

14、具体地,所述压板将密封圈和靶体固定在基座上;所述密封圈紧贴靶体,防止电镀液渗漏、腐蚀金属电极片;密封圈中间裸露靶体的区域为电镀区域。

15、进一步地,所述柱筒底端设有与所述下盖外螺纹相匹配的内螺纹,使柱筒固定在基座上,该结构能够防止电镀液外漏。

16、进一步地,所述柱筒顶端还设有筒盖;筒盖上设有电极孔和通气孔。

17、具体地,从电极孔插入阳极电极,电极端置于筒内,电极另一端连接外接电源。

18、优选地,所述阳极电极为铂(pt)丝电极。

19、进一步地,所述金属电极片的下方分布有导线;导线嵌在底座的缺口凹槽中,导线一端连接金属电极片,另外一端连接外接电源。

20、具体地,阳极电极连接外接电源的正极,底座导线连接外接电源的负极。

21、进一步地,所述底座、压板、密封圈、固定栓和筒盖均采用耐受电镀液和洗涤液的材料。

22、优选地,所述底座、压板、密封圈、固定栓和筒盖材料为聚四氟乙烯。

23、进一步地,所述柱筒采用耐受电镀液的硬质透明材料。

24、优选地,所述柱筒材料为玻璃。

25、本实用新型有益效果:

26、本实用新型提供一种用于制备放射性金属核素的固体靶电镀装置,包括基座和柱筒。基座与柱筒通过螺纹连接,基座包括底座、下盖、金属电极片、密封圈和压板。其中底座、金属电极片和下盖结构保持固定,可视为整体,在密封圈和金属电极片之间安装靶体。同时本装置可通过控制密封圈内径大小来调控电镀区域的大小,实现在小体积电镀靶件上的精准、高效电沉积。



技术特征:

1.用于制备放射性金属核素的固体靶电镀装置,包括基座和柱筒,其特征在于,所述基座与柱筒通过螺纹连接;其中,所述基座包括底座、下盖、金属电极片、密封圈和压板;所述底座上表面设有带外螺纹的凸台,所述凸台顶部设有凹槽,所述金属电极片固定于凹槽内;所述下盖带有中心螺纹孔和外螺纹,且所述中心螺纹孔与所述凸台的外螺纹相匹配;所述下盖的上表面还设有直径大于所述凸台的压板槽,所述压板槽表面分布有多个固定孔;所述压板上分布有多个与所述固定孔位置及大小相匹配的通孔;所述柱筒底端设有与所述下盖外螺纹相匹配的内螺纹。

2.如权利要求1所述的固体靶电镀装置,其特征在于,所述压板与所述压板槽大小一致,可嵌入压板槽内;所述压板通过贯穿所述通孔的固定栓与所述固定孔作用,并可拆卸式地固定于所述下盖上。

3.如权利要求1所述的固体靶电镀装置,其特征在于,所述金属电极片的厚度略低于所述凹槽的高度;所述凸台顶部与所述压板槽底部位置齐平。

4.如权利要求1所述的固体靶电镀装置,其特征在于,所述密封圈位于所述压板和下盖之间;且所述密封圈外径与下盖的中心螺纹孔的内径相同。

5.如权利要求1所述的固体靶电镀装置,其特征在于,所述柱筒顶端还设有筒盖。

6.如权利要求5所述的固体靶电镀装置,其特征在于,所述筒盖上设有电极孔和通气孔。

7.如权利要求1所述的固体靶电镀装置,其特征在于,所述金属电极片的下方分布有导线,所述导线连接外接电源。

8.如权利要求1 所述的固体靶电镀装置,其特征在于,所述底座、压板、密封圈、固定栓和筒盖均采用耐受电镀液和洗涤液的材料;所述柱筒采用耐受电镀液的硬质透明材料。


技术总结
本技术涉及放射性靶件制备领域,具体提供一种用于制备放射性金属核素的固体靶电镀装置,包括基座和柱筒。基座与柱筒通过螺纹连接,其中基座包括底座、下盖、金属电极片、密封圈和压板。该装置能够实现在小体积电镀靶件上的精准、高效电沉积。

技术研发人员:王枫清,程晚亭,杨大参,杨凌云,罗志刚
受保护的技术使用者:南京江原安迪科正电子研究发展有限公司
技术研发日:20240319
技术公布日:2024/12/5

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