一种清洗设备的制作方法

本技术涉及清洗装置，具体涉及一种清洗设备。

背景技术：

1、单晶硅通常采用单晶炉拉制而成，单晶炉的体积较大。单晶炉包括炉体和盖设于炉体上的盖体。在加工单晶硅前，或者加工单晶硅的过程中，需要对单晶炉的一些部件进行清洗。现有技术中，通常采用人工擦拭的方式，对单晶炉的这些部件进行擦拭。然而，人工擦拭效率低、作业强度大、而且容易存在卫生死角。

2、例如，为了提升单晶炉内热循环，需要在单晶炉的盖体上设置换热器，以通过换热器增强单晶炉内的热循环。在加工单晶硅前，或者加工单晶硅的过程中，需要对换热器表面的污垢进行清洗。现有技术中，通常采用人工对换热器表面的污垢进行擦拭。然而，通过人工擦拭换热器存在擦拭效率低、作业强度大、容易存在卫生死角等问题。并且，擦拭的过程中，作业人员位于盖体下方，使得作业过程中存在较大的安全隐患。

技术实现思路

1、本实用新型公开了一种清洗设备，以解决或者至少部分解决现有技术中存在的，通过人工擦拭零部件效率低、作业轻度大、存在卫生死角、作业过程中作业人员存在安全隐患的问题。

2、为了解决上述技术问题，本实用新型是这样实现的：

3、本实用新型公开了一种清洗设备，包括架体；清洗机构，所述清洗机构可升降的连接于所述架体，所述清洗机构内设置有清洗槽，所述清洗机构上升，以使所述清洗槽围设于待清洗件的外侧，对所述待清洗件进行清洗。

4、可选地，所述清洗设备还包括控制机构，其中，所述控制机构连接于所述清洗机构，所述控制机构用于在所述清洗机构到达预设位置的情况下，控制所述清洗机构上升，以使所述清洗槽围套设于所述待清洗件的外侧，并控制所述清洗机构清洗所述待清洗件。

5、可选地，所述清洗机构包括清洗机构本体、超声发生器和振板，其中，所述清洗机构本体可升降的连接于所述架体，所述清洗槽设置于所述清洗机构本体内，所述振板连接于所述清洗槽的内壁；所述超声发生器的一侧连接于所述控制机构，另一侧连接于所述振板，所述超声发生器用于驱动所述振板振动，以清洗所述待清洗件。

6、可选地，所述振板包括多个，多个所述振板间隔设置，且均连接于所述清洗槽的内壁。

7、可选地，所述清洗设备还包括多个间隔设置的加热器，其中，所述加热器连接于所述清洗槽的内壁，并与所述振板间隔设置，所述加热器用于加热所述清洗槽内的清洗液。

8、可选地，所述清洗设备还包括罩体，所述罩体连接于所述清洗机构远离所述架体的一侧；所述罩体上设置有通孔，所述通孔与所述清洗槽相对设置。

9、可选地，所述清洗设备还包括干燥机构，所述干燥机构设置于所述通孔内；且所述干燥机构连接于所述控制机构，所述控制机构用于在所述清洗机构清洗所述待清洗件之后，控制所述干燥机构干燥所述待清洗件。

10、可选地，所述干燥机构包括多个第一吹风件，多个所述第一吹风件间隔设置，且均连接于所述通孔的内壁。

11、可选地，所述干燥机构还包括第二吹风件和连接杆，所述连接杆的一端连接于所述清洗槽的底壁，另一端延伸至所述通孔内；所述第二吹风件连接于所述连接杆的另一端。

12、可选地，所述待清洗件为安装于单晶炉的换热器。

13、本实用新型公开了一种清洗设备，该清洗设备包括架体；清洗机构，所述清洗机构可升降的连接于所述架体，所述清洗机构内设置有清洗槽，所述清洗机构上升，以使所述清洗槽围设于待清洗件的外侧，对所述待清洗件进行清洗。

14、本实用新型中，将清洗机构可升降的连接于架体，并在清洗机构内设置清洗槽。清洗机构上升，使得清洗槽可以围设于待清洗件的外侧，通过清洗机构对待清洗件进行清洗。从而完成待清洗件的清洁作业，实现待清洗件的自动清洁，避免人工作业存在的安全隐患。并且，清洗效率高，待清洗件清洗的更加干净。

技术特征：

1.一种清洗设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括控制机构，其中，

3.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗机构包括清洗机构本体、超声发生器和振板，其中，

4.根据权利要求3所述的清洗设备，其特征在于，所述振板包括多个，多个所述振板间隔设置，且均连接于所述清洗槽的内壁。

5.根据权利要求3所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括多个间隔设置的加热器，其中，

6.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括罩体，所述罩体连接于所述清洗机构远离所述架体的一侧；

7.根据权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括干燥机构，所述干燥机构设置于所述通孔内；

8.根据权利要求7所述的清洗设备，其特征在于，所述干燥机构包括多个第一吹风件，多个所述第一吹风件间隔设置，且均连接于所述通孔的内壁。

9.根据权利要求7所述的清洗设备，其特征在于，所述干燥机构还包括第二吹风件和连接杆，所述连接杆的一端连接于所述清洗槽的底壁，另一端延伸至所述通孔内；

10.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述待清洗件为安装于单晶炉的换热器。

技术总结
本申请公开了一种清洗设备，属于清洗装置技术领域。所述清洗设备包括：架体；清洗机构，所述清洗机构可升降的连接于所述架体，所述清洗机构内设置有清洗槽，所述清洗机构上升，以使所述清洗槽围设于待清洗件的外侧，对所述待清洗件进行清洗。

技术研发人员：马瑞杰,李博一,刘文斌,田兴武,马瑞强,孔令飞,王兆龙,郝建龙,王士伟
受保护的技术使用者：鄂尔多斯市隆基硅材料有限公司
技术研发日：20240222
技术公布日：2024/12/5