本技术涉及太阳能电池生产设备领域,具体而言,涉及一种薄膜处理设备。
背景技术:
1、钙钛矿太阳能电池由于其低成本、高效率、可溶液加工等特点,已在光伏行业内得到快速推广,目前,很多企业已经实现了大面积狭缝涂布工艺制备钙钛矿的能力,并已经具有量产能力。针对目前量产钙钛矿薄膜的制备工艺,主要采用风刀辅助热退火、真空干燥辅助热退火的工艺实现钙钛矿薄膜的后处理工艺。然而,采用上述薄膜处理方式得到的钙钛矿薄膜会存在较多的内部缺陷,如孔洞、缝隙、晶界较多等问题。这些薄膜缺陷将会严重影响电池的器件效率和长期稳定性。
2、因此,现有技术中存在风刀辅助热退火、真空干燥辅助热退火工艺得到的该钛矿薄膜会存在较多的内部缺陷的问题。
技术实现思路
1、本实用新型的主要目的在于提供一种薄膜处理设备,以解决现有技术中风刀辅助热退火、真空干燥辅助热退火工艺得到的该钛矿薄膜会存在较多的内部缺陷的问题。
2、为了实现上述目的,根据本实用新型的一个方面,提供了一种薄膜处理设备,包括:主体部,主体部具有间隔设置的第一腔室和第二腔室,第一腔室具有与外界连通的第一开口,第二腔室具有与外界连通的第二开口;上下料组件,上下料组件的至少一部分设置在第一腔室的内部;移动载板,移动载板与主体部连接,且移动载板的至少一部分能够在第一开口和第二开口之间运动;溶剂添加组件,溶剂添加组件的至少一部分设置在第二腔室的内部,溶剂添加组件的至少另一部分设置在第二腔室的外部;挡板组件,挡板组件的至少一部分活动设置在第二开口处并能够遮挡或者避让第二开口。
3、进一步地,薄膜处理设备还包括:第一加热组件,第一加热组件的至少一部分设置在第二腔室的内部并能够对第二腔室进行加热;第二加热组件,第二加热组件的至少一部分设置在移动载板上并能够对移动载板进行加热。
4、进一步地,薄膜处理设备还包括:第一温度检测组件,第一温度检测组件的至少一部分设置在第二腔室的内部并对第二腔室内的温度进行检测;第二温度检测组件,第二温度检测组件的至少一部分设置在移动载板上并对移动载板上的电池片的温度进行检测;控制组件,控制组件分别与第一加热组件、第二加热组件、第一温度检测组件以及第二温度检测组件信号连接。
5、进一步地,薄膜处理设备还包括氮气通入管路,氮气通入管路的一端与第二腔室的内部连通并向第二腔室的内部通入氮气。
6、进一步地,溶剂添加组件包括多个第一溶剂添加部和多个第二溶剂添加部,第一溶剂添加部和第二溶剂添加部的数量相等且一一对应,第一溶剂添加部与对应的第二溶剂添加部连通,且第一溶剂添加部设置在第二腔室的外部,第二溶剂添加部设置在第二腔室的内部。
7、进一步地,不同的第二溶剂添加部设置在第二腔室的不同角部处。
8、进一步地,第一腔室和第二腔室的高度相同并沿水平方向间隔设置,且第一开口和第二开口分别设置在第一腔室的底部和第二腔室的底部。
9、进一步地,主体部对应第一腔室和第二腔室的下方设置有活动空间,移动载板活动设置在活动空间的内部。
10、进一步地,第一开口和第二开口的开口面积相同。
11、进一步地,薄膜处理设备还包括与主体部间隔设置的真空干燥处理组件。
12、应用本实用新型的技术方案,本申请中的薄膜处理设备包括主体部、上下料组件、移动载板、溶剂添加组件以及挡板组件。主体部具有间隔设置的第一腔室和第二腔室,第一腔室具有与外界连通的第一开口,第二腔室具有与外界连通的第二开口;上下料组件的至少一部分设置在第一腔室的内部;移动载板与主体部连接,且移动载板的至少一部分能够在第一开口和第二开口之间运动;溶剂添加组件的至少一部分设置在第二腔室的内部,溶剂添加组件的至少另一部分设置在第二腔室的外部;挡板组件的至少一部分活动设置在第二开口处并能够遮挡或者避让第二开口。
13、使用本申请中的薄膜处理设备时,由于主体部具有第一腔室和第二腔室,并且上下料组件的至少一部分设置在第一腔室,同时溶剂添加组件的至少一部分设置在第二腔室,同时移动载板能够在第一开口和第二开口之间运动,所以能够在移动载板运动至第一开口时,通过上下料组件将待处理的电池片放置在移动载板上,并且通过移动载板将待处理的电池片输送至第二腔室并进行溶剂退火处理,从而实现量产钙钛矿薄膜后处理工艺。同时,由于本申请中的薄膜处理设备还具有挡板组件,所以在移动载板未处于第二开口时能够通过挡板组件对第二开口进行正当,从而实现第二腔室内的密闭环境饱和蒸气压的溶剂氛围。因此,本申请中的薄膜处理设备有效地解决了现有技术中风刀辅助热退火、真空干燥辅助热退火工艺得到的该钛矿薄膜会存在较多的内部缺陷的问题。
1.一种薄膜处理设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的薄膜处理设备,其特征在于,所述薄膜处理设备还包括:
3.根据权利要求2所述的薄膜处理设备,其特征在于,所述薄膜处理设备还包括:
4.根据权利要求1所述的薄膜处理设备,其特征在于,所述薄膜处理设备还包括氮气通入管路,所述氮气通入管路的一端与所述第二腔室(12)的内部连通并向所述第二腔室(12)的内部通入氮气。
5.根据权利要求1所述的薄膜处理设备,其特征在于,所述溶剂添加组件(30)包括多个第一溶剂添加部和多个第二溶剂添加部,所述第一溶剂添加部和所述第二溶剂添加部的数量相等且一一对应,所述第一溶剂添加部与对应的所述第二溶剂添加部连通,且所述第一溶剂添加部设置在所述第二腔室(12)的外部,所述第二溶剂添加部设置在所述第二腔室(12)的内部。
6.根据权利要求5所述的薄膜处理设备,其特征在于,不同的所述第二溶剂添加部设置在所述第二腔室(12)的不同角部处。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的薄膜处理设备,其特征在于,所述第一腔室(11)和所述第二腔室(12)的高度相同并沿水平方向间隔设置,且所述第一开口和所述第二开口分别设置在所述第一腔室(11)的底部和所述第二腔室(12)的底部。
8.根据权利要求7所述的薄膜处理设备,其特征在于,所述主体部(10)对应所述第一腔室(11)和所述第二腔室(12)的下方设置有活动空间,所述移动载板(20)活动设置在所述活动空间的内部。
9.根据权利要求7所述的薄膜处理设备,其特征在于,所述第一开口和所述第二开口的开口面积相同。
10.根据权利要求1至6中任一项所述的薄膜处理设备,其特征在于,所述薄膜处理设备还包括与所述主体部(10)间隔设置的真空干燥处理组件(40)。
