一种瓷砖纹理的淋釉装置、仿天然石材纹理瓷砖的制作方法

专利查询2022-5-9  261



1.本实用新型涉及陶瓷制造设备领域,尤其涉及一种瓷砖纹理的淋釉装置、仿天然石材纹理瓷砖。


背景技术:

2.目前市场上利用各种工艺手段模拟天然石材的纹理,主要通过两种方式:一种是将不同颜色的粉料通过干法布料冲压,再经烧成抛光后获得石材纹理,但所得产品表面的图案重复性高,层次感不强。另外一种采用喷墨印花技术结合设计图案来加以实现,设计图案直接打印到砖坯上,精细度高且可控性强,但其最大的缺点就是人为设计的,随机性不高,不够自然,且其为二维平面结构,立体感、层次感不强。


技术实现要素:

3.为了克服现有技术的不足,本实用新型提供一种瓷砖纹理的淋釉装置,淋釉形成的流纹纹理延伸方向自然多变,瓷砖表面纹理层纹理深度各异,层次感强。
4.为了实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案实现。
5.本实用新型提供一种瓷砖纹理的淋釉装置,包括:
6.淋釉钟罩,用以使釉浆形成第一釉幕;
7.引流板,设置于所述淋釉钟罩下方,用以承接所述淋釉钟罩落下的第一釉幕;
8.喷墨组件,用以向所述引流板上的釉浆表面喷施墨水;
9.传送带,设置于所述引流板下方,用以传送砖坯;
10.所述引流板沿远离所述淋釉钟罩的方向向下倾斜设置;所述引流板上墨水随着釉浆流动而混入所述釉浆中,其末端落下的第二釉幕淋于所述砖坯表面,以形成瓷砖表面釉面的纹理图案。
11.优选地,所述引流板固定于所述淋釉钟罩。
12.优选地,所述引流板两侧向上延伸,以分别形成一挡流板。
13.优选地,两所述挡流板分别固定于所述淋釉钟罩两侧。
14.优选地,还包括加釉斗,位于所述淋釉钟罩上方。
15.优选地,所述引流板与水平面夹角为5-30
°

16.优选地,所述喷墨组件设于所述引流板上方,且使得墨水喷施于所述引流板上的釉浆表面的位置距所述引流板末端的距离为15-40cm。
17.优选地,还包括接釉槽,用以接住自所述传送带流下的釉浆。
18.优选地,所述喷墨组件包括启停系统,被配置成用于控制所述喷墨组件喷施墨水的开启或停止,以使得所述引流板上的混合有墨水的釉浆全部淋到所述砖坯上。
19.本实用新型第二个目的是提供一种仿天然石材纹理瓷砖,采用如上所述的一种瓷砖纹理的淋釉装置进行淋釉处理。
20.相比现有技术,本实用新型的有益效果在于:
21.本实用新型提供一种瓷砖纹理的淋釉装置,通过倾斜设置的引流板,提供釉浆与墨水自然混合的场地,釉浆在引流板上沿引流板倾斜方向自然向前流动,由于流体扩散作用,釉浆与墨水会在釉浆表面及内部发生不同程度的交叉混合,形成丰富多变的自然流纹效果,流至引流板末端落下形成第二釉幕,第二釉幕淋到砖坯表面,经过后续烧成、抛光形成瓷砖表面的具有自然流纹效果表面釉面的纹理图案。由于釉浆和墨水在引流板上自然流动扩散,随机变化性强,瓷砖的流纹纹理延伸方向自然多变,瓷砖表面纹理层纹理深度各异,层次感强。
22.本上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
23.此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本技术的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
24.图1为本实用新型的装置本体的侧视图;
25.图2为本实用新型的装置本体的俯视图。
26.图中:
27.1、装置本体;11、淋釉钟罩;12、引流板;121、挡流板;13、喷墨组件;14、传送带;15、加釉斗;
28.2、砖坯。
具体实施方式
29.下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明,本实用新型的前述和其它目的、特征、方面和优点将变得更加明显,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。在附图中,为清晰起见,可对形状和尺寸进行放大,并将在所有图中使用相同的附图标记来指示相同或相似的部件。在下列描述中,诸如中心、厚度、高度、长度、前部、背部、后部、左边、右边、顶部、底部、上部、下部等用词为基于附图所示的方位或位置关系。特别地,“高度”相当于从顶部到底部的尺寸,“宽度”相当于从左边到右边的尺寸,“深度”相当于从前到后的尺寸。这些相对术语是为了说明方便起见并且通常并不旨在需要具体取向。涉及附接、联接等的术语(例如,“连接”和“附接”)是指这些结构通过中间结构彼此直接或间接固定或附接的关系、以及可动或刚性附接或关系,除非以其他方式明确地说明。
30.下面,结合附图以及具体实施方式,对本实用新型做进一步描述,需要说明的是,在不相冲突的前提下,以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
31.实施例1
32.本实用新型提供一种瓷砖纹理的淋釉装置,如图1、图2所示,包括装置本体1,所述装置本体1包括:
33.淋釉钟罩11,用以使釉浆形成第一釉幕;
34.引流板12,设置于所述淋釉钟罩11下方,用以承接所述淋釉钟罩11落下的第一釉幕;
35.喷墨组件13,用以向所述引流板12上的釉浆表面喷施墨水;
36.传送带14,设置于所述引流板12下方,用以传送砖坯2;
37.所述引流板12沿远离所述淋釉钟罩11的方向向下倾斜设置;所述引流板12上墨水随着釉浆流动而混入所述釉浆中,其末端落下的第二釉幕淋于所述砖坯2表面,以形成瓷砖表面釉面的纹理图案。
38.具体地,装置本体1运行时,传送带14运送砖坯2从引流板下方经过,引流板2末端流下的第二釉幕淋于砖坯上,实现淋釉。通过倾斜设置的引流板12,提供釉浆与墨水自然混合的场地,釉浆在引流板12上沿引流板12倾斜方向自然向前流动,由于流体扩散作用,釉浆与墨水会在釉浆表面及内部发生不同程度的交叉混合,形成丰富多变的自然流纹效果,流至引流板12末端落下形成第二釉幕,第二釉幕淋到砖坯2表面,经过后续烧成、抛光形成瓷砖的具有自然流纹效果表面釉面的纹理图案。由于釉浆和墨水在引流板12上自然流动扩散,随机变化性强,瓷砖的流纹纹理延伸方向自然多变,瓷砖表面纹理层纹理深度各异,层次感强。
39.在一实施例中,装置本体1包括机架(图中未示出),淋釉钟罩11、引流板12、喷墨组件13分别设置于机架上。
40.在又一实施例中,所述引流板12固定于所述淋釉钟罩11,便于设计引流板12与淋釉钟罩11的相对位置,且便于引流板12承接淋釉钟罩11落下的第一釉幕,防止釉浆浪费。
41.在一实施例中,所述引流板12两侧向上延伸,以分别形成一挡流板121,以阻挡引流板12上釉浆自其两侧落下,而影响了釉浆与墨水的混合效果。通过挡流板121的设置,使得引流板12上的釉浆只能沿引流板12倾斜向下的延伸分方向运动,通过喷墨组件13与引流板12相对位置的调整,控制墨水与釉浆混合后的流动路径,以调整形成的流纹纹理效果,纹理自然而不杂乱。
42.进一步地,两所述挡流板121分别固定于所述淋釉钟罩11两侧,以使淋釉钟罩11落下的第一釉幕能够全部流至引流板12上。
43.在一实施例中,还包括加釉斗15,位于所述淋釉钟罩11上方。进一步地,所述加釉斗15略靠近所述引流板12所在侧设置。加釉斗15将釉浆施加于淋釉钟罩11靠近引流板12所在侧的表面上,淋釉钟罩11上的釉浆在其重力下,向淋釉钟罩11靠近引流板12所在侧流动,以流向引流板12。通过设计加釉斗15与淋釉钟罩11的相对位置,控制淋釉钟罩11落下的釉幕流入引流板12,以免淋釉钟罩11上的釉浆流至引流板12以外的区域。
44.在一实施例中,所述引流板12与水平面夹角为5-30
°
。通过控制引流板12的倾斜角度,以控制引流板12上釉浆流动速度,以免釉浆流速过快而使得釉浆表面及内部混合的墨水效果不佳,或以免釉浆流速过慢而使得釉浆内部混合的墨水效果不佳。此外,引流板12的倾斜角度配合釉浆自身重力因素,以使得釉浆尽可能匀速流动,以缩小釉浆不同部位的表面及内部混合的墨水的量的差别,以避免形成的瓷砖局部纹理过多过少的情况,以提高瓷砖表面纹理美感。
45.在一实施例中,所述喷墨组件13设于所述引流板12上方,且使得墨水喷施于所述引流板12上的釉浆表面的位置距所述引流板12末端的距离为15-40cm,以控制釉浆混合墨
水后在引流板12上的流动时长,进而控制最终瓷砖形成的表面仿天然石材纹理结构。
46.在一实施例中,还包括接釉槽,用以接住自所述传送带14流下的釉浆,以防止装置本体1附近场所被釉料污染。
47.在一实施例中,所述喷墨组件13包括启停系统,被配置成用于控制所述喷墨组件13喷施墨水的开启或停止,以使得所述引流板12上的混合有墨水的釉浆全部淋到所述砖坯2上。具体地,喷墨组件13喷施至引流板12上到混合该墨水后第二釉幕淋到砖坯上的时间为t,砖坯从电眼位置到砖坯接触第二釉幕的位置的时间t,设定t≥t。启停系统包括电眼,当t=t时,电眼检测到砖坯经过电眼时,发送信号,喷墨组件13开启喷墨;当t》t时,设置喷墨组件13延迟启动时间来弥补时间差,该时间等于t与t的差值,以保证混合了墨水后形成的第二釉幕刚好淋到砖坯上,以免混合了墨水后形成的第二釉幕流入釉浆循环系统造成污染、色差等品质异常。
48.在一实施例中,所述喷墨组件13包括储藏盒,储藏盒内存储有墨水,通过喷嘴喷出。进一步地,墨水为水性墨水,有利于其与水性的釉浆混合均匀,以便形成丰富自然的纹理效果。此外,当喷墨组件13导致装置本体1附近场所被墨水污染,水性墨水便于清洗,以保证生产场所的卫生洁净。
49.实施例2
50.本实用新型提供一种仿天然石材纹理瓷砖,采用如上所述的一种瓷砖纹理的淋釉装置进行淋釉处理。瓷砖表面流纹纹理方向自然多变,再现天然石材纹理效果;瓷砖表面纹理层不同深度纹理各异,层次感强,更富于变化。
51.仿天然石材纹理瓷砖的制备方法,包括以下步骤:
52.s1、按照公知的工艺制作砖坯2;
53.s2、施底釉,施釉重量为400-580g/m2;
54.s3、采用装置本体1施面釉(流纹面釉),施釉重量为580-1000g/m2;在一实施例中,面釉为锆白釉;
55.s4、烧成,烧成温度1180-1260℃,烧成周期50-90min;
56.s5、抛光,磨边,得仿天然石材纹理瓷砖。
57.以上,仅为本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制;凡本行业的普通技术人员均可按说明书附图所示和以上而顺畅地实施本实用新型;但是,凡熟悉本专业的技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围内,利用以上所揭示的技术内容而做出的些许更动、修饰与演变的等同变化,均为本实用新型的等效实施例;同时,凡依据本实用新型的实质技术对以上实施例所作的任何等同变化的更动、修饰与演变等,均仍属于本实用新型的技术方案的保护范围之内。

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