一种平面抛光拉丝机的制作方法

1.本实用新型涉及的材料加工的技术领域，特别涉及一种适用于半导体材料加工的平面抛光拉丝机。


背景技术：

2.半导体原材料（如硅、石英、石墨、石膏、陶瓷）等板类零件，在平面加工成型后需要进行抛光或拉丝处理。
3.半导体材料板类零件的平面本身特性为粗糙度低于镜面，一般为4um-8um之间，传统的对半导体材料平面进行抛光或拉丝时，需要分别采用抛光机和拉丝机，不仅会提高生产成本，还降低生产效率，同时由于半导体材料的板类零件平面对平行度加工的要求不高，采用专用拉丝机进行拉丝会大大提高成本，产生不必要的浪费。
4.因此需要提出一种适用于半导体材料板类零件的平面抛光和拉丝的装置，既能降低生产成本，又能提高生产效率。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种平面抛光拉丝机，既能抛光又能拉丝，极大降低成本和生产效率，且定位精准，操作方便。
6.为实现上述目的，本实用新型提出了一种平面抛光拉丝机，包括机架座、工作台和抛光拉丝组件，所述机架座两侧设有移动装置，用于驱动工作台的上下移动，所述抛光拉丝组件位于工作台的上方，包括砂带和驱动砂带进行转动的驱动装置。
7.作为优选，所述移动装置包括传动长轴、位于传动长轴两端的丝杆、驱动传动长轴转动的电机，所述传动长轴和丝杆通过涡轮蜗杆转动连接，所述工作台通过升降螺母与丝杆连接，实现上下移动。
8.作为优选，所述工作台上还设有调节托板，所述调节托板与升降螺母连接，所述机架座两侧还设有两个提升架板，所述提升架板通过轴承与丝杆连接，所述调节托板一端位于两个所述提升架板之间；方便工作台的上下移动，同时设置的提升架板对工作台进行限位。
9.作为优选，所述两个提升架板之间还设有两个提升架导杆，两个所述提升架导杆位于丝杆两侧，与调节托板连接；提高工作台上下移动的稳定性。
10.作为优选，该抛光拉丝机还包括用于调节工作台前后位置的滑动装置，所述滑动装置包括托杆、安装在托杆上的滑杆和与工作台连接的滑动组件，所述滑动组件能够在滑杆上滑动；方便半导体材料加工时拉丝、抛光位置的调整和加工前后的取放。
11.作为优选，所述滑动组件包括滑动架和位于滑动架两侧的滑动轴，滑动轴靠近滑杆的一端设有滑动轴承，位于两侧的滑动轴承与滑杆抵接；方便加工台的前后移动。
12.作为优选，所述滑动架为倒等腰三角形；受力均匀，前后移动稳定。
13.作为优选，所述驱动装置包括位于机架座两侧的砂带轮、两个砂带轮之间的涨紧
轮和驱动其中一个砂带轮的电机。
14.作为优选，所述机架座上还设有用于安装涨紧轮的调节装置，所述调节装置包括摆臂、调节柱和拉紧杆，所述涨紧轮通过涨紧轮轴与摆臂连接，所述摆臂和拉紧杆通过摆臂轴连接，所述摆臂轴通过轴承与调节柱连接；用于调节涨紧轮的位置，调节砂带的张紧度，提高抛光、拉丝效果。
15.作为优选，还包括机架安全罩，所述砂带和驱动装置位于机架安全罩内，所述机架安全罩的一侧设有排尘管；提高安全性，方便除尘。
16.本实用新型的有益效果：本实用新型通过设置移动装置、滑动装置实现了工作台的上下、前后移动，适合不同厚度板类零件的抛光、拉丝，加工时的位置调整精度高，且便于取放；同时工作台上方设置的砂带和驱动装置，通过更换不同的砂带能够对板类零件的平面进行有效的抛光和拉丝，成本低、工作效率高，工作效果好。
17.本实用新型的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。
附图说明
18.图1是本实用新型实施例的立体结构示意图。
19.图2是本实用新型实施例的俯视图。
20.图3是本实用新型实施例内部的爆炸结构示意图。
21.图4是图3中a处的局部放大结构示意图。
22.图中：1-机架座、2-工作台、3-机架安全罩、4-移动装置、5-砂带、6-驱动装置、7-滑动装置、8-调节装置、11-提升架板、12-提升架导杆、21-调节托板、22-拉杆、31-排尘管、41-传动长轴、42-丝杆、43-电机一、44-减速机、61-砂带轮、62-涨紧轮、63-电机二、64-带轮、65-主动轴、71-托杆、72-滑杆、73-滑动架、74-滑动轴、75-滑动轴承、81-摆臂、82-调节柱、83-拉紧杆、84-加强筋。
具体实施方式
23.为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面通过附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。但是应该理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。
24.如图1至图4所示，本实施例的一种平面抛光拉丝机，包括机架座1、工作台2、抛光拉丝组件和机架安全罩3，机架座1两侧设有移动装置4，用于驱动工作台2的上下移动，抛光拉丝组件位于工作台2的上方，包括砂带5和驱动砂带5进行往复运动的驱动装置6，用于对半导体材料板类零件平面的抛光或拉丝，抛光拉丝组件位于机架安全罩3内，防止灰尘、粉尘等的外泄，机架安全罩3一侧设有排尘管31，对产生的灰尘、粉尘集中统一处理。
25.具体的，移动装置4包括传动长轴41、丝杆42和电机一43，电机一43位于机架座1一侧，通过减速机44与传动长轴41连接，实现传动长轴41的转动；
26.传动长轴41的两端通过轴承座固定在机架座1上，丝杆42位于机架座1两侧通过轴承与机架座1转动连接，丝杆42上端通过涡轮蜗杆与传动长轴41实现转动连接；工作台2通过升降螺母与丝杆42连接，实现上下移动；更为具体的，工作台2上还设有调节托板21，调节
托板21与升降螺母连接，带动工作台2的上下移动，机架座1两侧还设有两个与机架座1侧面垂直的提升架板11，提升架板11通过轴承与丝杆42连接，这样丝杆42在转动时能够保持提升架板11固定，调节托板21一端位于两个所述提升架板11之间；优选的，两个提升架板11之间还设有两个提升架导杆12，两个提升架导杆12位于丝杆42两侧，与调节托板21连接，用于对调节托板21上下移动进行导向，同时增强调节托板21及工作台2上下移动的稳定性；
27.为了提高抛光或拉丝的精确度和方便材料的取放，在工作台2上还设置了滑动装置7，滑动装置7包括托杆71、安装在托杆71上的滑杆72和与工作台2连接的滑动组件，托杆71的下侧与调节托板21固定连接，滑动组件包括倒等腰三角形的滑动架73、滑动轴74和滑动轴承75，滑动架73的上端与工作台2焊接，滑动轴74固定在滑动架73下端两侧，滑动轴承75套接在滑动轴74上，与滑杆72的表面抵接，推动工作台2时可以实现工作台2的前后移动；为了便于工作台2的推动，在工作台2前侧还设有拉杆22。
28.具体的，驱动装置6包括位于机架座1两侧的砂带轮61、两个砂带轮61之间的涨紧轮62和电机二63，电机二63位于机架座1上端，通过带轮64、主动轴65与砂带轮61连接，砂带5位于两个砂带轮61、涨紧轮62上随着砂带轮61的转动而转动；
29.更为具体的，为了调节砂带5的涨紧程度，在机架座1上设有用于安装涨紧轮62的调节装置8，调节装置8包括摆臂81、调节柱82和拉紧杆83，涨紧轮62通过涨紧轮轴与摆臂81连接，摆臂81和拉紧杆83通过摆臂轴连接，摆臂轴通过轴承与调节柱82的上端连接，同时为了增加调节柱82的强度，还在调节柱82的侧壁设置了加强筋84；加强筋84可以为镂空的三角形。
30.工作时，对半导体材料板类零件的平面进行抛光时，选择适合抛光的砂带5绕于砂带轮61、涨紧轮62上；对半导体材料板类零件的平面进行拉丝时，选择适合拉丝的砂带5绕于砂带轮61、涨紧轮62上。
31.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。